[发明专利]二维碳素-金属构型化复合材料及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 202110626526.0 申请日: 2021-06-04
公开(公告)号: CN113355058A 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 熊定邦;张晓辉;李志强;张荻 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C09K5/14 分类号: C09K5/14;H01L23/373
代理公司: 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 31227 代理人: 范艳静
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 二维 碳素 金属 构型 复合材料 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种二维碳素-金属构型化复合材料,其特征在于:其由体积分数为20-90%的金属箔片和10-80%的碳素材料同轴构型得到;

所述金属箔片选自铝箔或表面修饰的铜箔;

所述碳素材料选自石墨纸、鳞片石墨、石墨烯纳米片和石墨烯薄膜中的一种以上。

2.根据权利要求1所述的二维碳素-金属构型化复合材料,其特征在于:所述表面修饰的铜箔的过程为:采用磁控溅射或化学气相沉积的方法对铜箔进行表面合金化、表面镀膜或原位生长石墨烯。

3.根据权利要求2所述的二维碳素-金属构型化复合材料,其特征在于:所述原位生长石墨烯为单层或多层的石墨烯,石墨烯的厚度为0.3-30nm,片径为0.1-30μm;

优选地,石墨烯的片径为0.5-10μm。

4.根据权利要求1所述的二维碳素-金属构型化复合材料,其特征在于:所述铝箔和表面修饰的铜箔的宽度均为10-50cm,厚度均为10-30μm;和/或,

所述石墨纸的纯度为99.9%,厚度为10-30μm,宽度为10-50cm;和/或,

所述鳞片石墨的纯度为99.9%,片径为0.5-5μm;和/或,

所述石墨烯纳米片的片径为5-10μm;和/或,

所述石墨烯薄膜的厚度为40-60μm。

5.一种根据权利要求1-4任一项所述的二维碳素-金属构型化复合材料的制备方法,其特征在于:其包括如下步骤:

(1)、将金属箔片进行退火还原,得到退火的金属箔片;

(2)、将所述退火的金属箔片和碳素材料叠层卷制成单芯同轴圆柱体坯料;

(3)、将所述单芯同轴圆柱体坯料在氩气保护下进行热等静压烧结,得到碳素-金属复合材料坯体;

(4)、将所述碳素-金属复合材料坯体去除包套,在400-600℃或700-1000℃下热挤压得到二维碳素-金属构型化复合材料。

6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于:步骤(1)中,所述金属箔片选自铝箔或表面修饰的铜箔;和/或,

所述表面修饰的铜箔的过程为:采用磁控溅射或化学气相沉积的方法对铜箔进行表面合金化、表面镀膜或原位生长石墨烯;和/或,

所述原位生长石墨烯为单层或多层的石墨烯,石墨烯的厚度为0.3-30nm,片径为0.1-30μm;和/或,

所述石墨烯的片径为0.5-10μm;和/或,

所述铝箔和表面修饰的铜箔的宽度均为10cm,厚度均为10-30μm。

7.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于:步骤(2)中,所述碳素材料选自石墨纸、鳞片石墨、石墨烯纳米片和石墨烯薄膜中的一种以上。

8.根据权利要求5-7任一项所述的制备方法,其特征在于:步骤(2)中,当所述退火的金属箔片为退火的铜箔时,采用磁控溅射或化学气相沉积的方法对退火的铜箔进行表面合金化、表面镀膜或原位生长石墨烯的修饰;和/或,

步骤(2)中,当所述碳素材料为鳞片石墨或石墨烯纳米片时,超声分散后喷洒在退火的金属箔片的表面,烘干后一起卷制成单芯同轴圆柱体坯料;和/或,

步骤(2)中,所述单芯同轴圆柱体坯料的直径为6cm,高度为10-50cm。

9.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于:步骤(3)中,所述热等静压烧结时,烧结温度为400-600℃或700-1000℃,烧结压力为130Mpa,保温时间为2h,升温速率为10℃/min;

优选地,当金属箔片为铜箔时,所述烧结的温度为700-1000℃;当金属箔片为铝箔时,所述烧结的温度为400-600℃。

10.一种如权利要求1所述的二维碳素-金属构型化复合材料在热管理领域中的应用。

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