[发明专利]一种太赫兹涡旋处理器的设计方法及其所得产品与应用在审
| 申请号： | 202110628475.5 | 申请日： | 2021-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN113378372A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 沈志雄;葛士军;郭清仪 | 申请（专利权）人： | 南京南辉智能光学感控研究院有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G06F113/26 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 金诗琦 |
| 地址： | 211135 江苏省南京市麒麟科*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 赫兹 涡旋 处理器 设计 方法 及其 所得 产品 应用 | ||
1.一种太赫兹涡旋处理器的设计方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一，确定目标相位调制矩阵和得到超构表面的几何相位和共振相位矩阵；
步骤二，在电磁场仿真模拟设计中，确定介质柱(2)的高度和周期，设置LCP波入射，然后对长宽进行扫描，得到不同长宽的透射相位矩阵；
步骤三，在透射相位矩阵中筛选结构参数以满足对应的再旋转角度θ以满足对应的LCP波和RCP波入射同一结构单元，产生的几何相位互为正负关系，产生的传播相位相同，形成自旋复用的相位调制；
步骤四，根据上述设计确定超表面结构参数，进行光刻掩膜板的制备。
2.根据权利要求1所述的一种太赫兹涡旋处理器的设计方法，其特征在于：所述步骤一中，几何相位共振相位
3.根据权利要求1所述的一种太赫兹涡旋处理器的设计方法，其特征在于：所述步骤一中，是沿着x方向产生1*4的涡旋阵列，拓扑核分别为±1和±2。
4.根据权利要求1所述的一种太赫兹涡旋处理器的设计方法，其特征在于：所述步骤一中，是沿着y方向产生1*4的涡旋阵列，拓扑核分别为±1和±2。
5.根据权利要求1所述的一种太赫兹涡旋处理器的设计方法，其特征在于：所述步骤二中，介质柱(2)的横截面具有各向异性。
6.根据权利要求1所述的一种太赫兹涡旋处理器的设计方法，其特征在于：所述步骤二中，介质柱(2)为椭圆形或长方形。
7.根据权利要求1所述的一种太赫兹涡旋处理器的设计方法，其特征在于：所述步骤三中，在LCP波入射时的总相位为在RCP波入射时的总相位为
8.根据权利要求1～7任一所述的一种太赫兹涡旋处理器的设计方法制得的太赫兹涡旋处理器，其特征在于：包括基板(1)和介质柱(2)，所述基板(1)上设置介质柱(2)。
9.根据权利要求8所述的太赫兹涡旋处理器，其特征在于：所述介质柱(2)在不同阵列位置，具有相同的高度、周期，不同的长度、宽度、旋转角度。
10.根据权利要求8或9所述的太赫兹涡旋处理器在太赫兹涡旋入射波自旋状态、拓扑核数检测中的应用。
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