[发明专利]X射线分析装置在审
| 申请号： | 202110629795.2 | 申请日： | 2021-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN113884524A | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 高桥春男 | 申请（专利权）人： | 日本株式会社日立高新技术科学 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 崔成哲;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 射线 分析 装置 | ||
1.一种X射线分析装置，其特征在于，所述X射线分析装置具有：
X射线源，其能够对试样照射X射线；
X射线检测部，其检测从所述试样产生的二次X射线；
试样搬送部，其搬送所述试样；
分析器，其按照能量来辨别从所述X射线检测部输出的信号，按照能量对射入次数进行计数，得到能量谱作为X射线强度；以及
数据处理部，其根据由所述分析器得到的能量谱中的特定元素的能量的二次X射线强度和所设定的X射线强度的阈值，判断被所述试样搬送部移动的所述试样是否正在通过所述X射线的照射位置。
2.根据权利要求1所述的X射线分析装置，其特征在于，
所述数据处理部对所述试样的特定元素的能量的X射线强度与所设定的X射线强度的所述阈值进行比较，判断所述试样是否位于X射线的所述照射位置。
3.根据权利要求1所述的X射线分析装置，其特征在于，
所述数据处理部对所述试样搬送部的表面的材质的特定元素的能量的X射线强度与所设定的X射线强度的所述阈值进行比较，判断试样是否位于X射线的所述照射位置。
4.根据权利要求1所述的X射线分析装置，其特征在于，
所述数据处理部对一次X射线的散射射线的X射线强度和所设定的X射线强度的所述阈值进行比较，判断试样是否位于X射线的所述照射位置。
5.根据权利要求1所述的X射线分析装置，其特征在于，
所述分析器以比所述试样通过X射线的所述照射位置所需要的时间短的时间间隔连续取得由所述X射线检测部检测到的二次X射线的X射线强度的能量谱。
6.根据权利要求1所述的X射线分析装置，其特征在于，
所述数据处理部能够从通过机器学习得到的能量谱的特征量选择出试样位于所述X射线的所述照射位置的时刻的能量谱。
7.根据权利要求1～6中的任意一项所述的X射线分析装置，其特征在于，
X射线能量谱由等间隔地划分连续的能量或波长的范围而成的X射线计数的直方图构成。
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