[发明专利]显示装置在审
申请号: | 202110631201.1 | 申请日: | 2016-11-25 |
公开(公告)号: | CN113363402A | 公开(公告)日: | 2021-09-07 |
发明(设计)人: | 高在庆;罗银渽;赵玟俊;黄贤旻 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;G02F1/13 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 陈宇;尹淑梅 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 | ||
提供了一种显示装置。所述显示装置包括:第一基底,包括第一内表面和与所述第一内表面相对的第一外表面;第二基底,包括面向所述第一内表面的第二内表面和与所述第二内表面相对的第二外表面;显示元件,位于所述第一内表面与所述第二内表面之间,所述显示元件包括发光显示元件和薄膜晶体管;以及密封元件,位于所述第一基底与所述第二基底之间,并且围绕所述显示元件;其中,所述第一基底还包括连接所述第一内表面和所述第一外表面的第一侧表面,所述第一侧表面包括第一平坦表面和第一弯曲表面。
本申请是申请日为2016年11月25日、申请号为201611060666.1、发明名称为“显示装置及其制造方法”的发明专利申请的分案申请。
技术领域
一个或更多个实施例的多个方面涉及一种显示装置及其制造方法。
背景技术
由于包括有机发光显示装置和液晶显示装置的显示装置可以被制造为薄的显示装置和/或柔性显示装置,因此正在对它们进行各种研究。由于其上形成有显示器的第一基底通过使用包封元件粘附到第二基底,因此这样的显示装置可以具有显示器位于第一基底与第二基底之间的结构。
然而,在现有技术的这样的显示装置中,第一基底和/或第二基底可能会容易被外部冲击损坏。
发明内容
根据一个或更多个实施例的一方面,提供一种具有改善的抗冲击性的显示装置及其制造方法。
另外的方面将部分地在随后的描述中阐述,并且部分地通过该描述将是明显的,或者可以通过给出的实施例的实施而获知。
根据一个或更多个实施例,制造显示装置的方法包括:准备包括显示器的第一基底;通过使用密封元件将第二基底粘附到第一基底;通过使用包括彼此分开布置的多个阻挡图案的阻挡构件来暴露密封元件;以及沿第一基底和第二基底的在阻挡构件内的部分切割第一基底和第二基底。
阻挡构件可以与密封元件的部分叠置。
阻挡构件可以与密封元件的外端部分叠置。
将第二基底粘附到第一基底的步骤可以包括:在第一基底上布置第二基底;以及在第二基底上布置阻挡构件,使得阻挡构件与密封元件的一部分叠置。
可以在密封元件的横向方向上彼此分开地顺序地布置所述多个阻挡图案。
阻挡构件中的至少一部分可以包括:第一阻挡图案,与密封元件至少部分地叠置;第二阻挡图案,在密封元件的横向方向上与第一阻挡图案分开布置。
第一阻挡图案在横向方向上的宽度可以等于或大于第二阻挡图案在横向方向上的宽度。
所述多个阻挡图案中的至少一个可以具有线性形状或点状形状。
所述多个阻挡图案可以由金属形成。
所述方法还可以包括在第二基底上形成触摸屏导电图案,其中,可以在形成触摸屏导电图案期间形成所述多个阻挡图案。
在所述多个阻挡图案之中的彼此相邻的阻挡图案之间的距离可以在大约7μm之内。
阻挡构件可以与密封元件的三个表面部分叠置。
在暴露密封元件的步骤中,密封元件的不与阻挡构件叠置的部分可以被暴露,密封元件的与阻挡构件叠置的部分可以不被暴露。
密封元件的暴露部的宽度可以小于或等于800μm。
在切割第一基底和第二基底的步骤中,可以切割第一基底和第二基底,使得相对于密封元件测量的显示装置的宽度大于第一基底或第二基底的宽度。
在切割第一基底和第二基底的步骤中,可以切割第一基底,使得第一基底的宽度在从第一基底的外表面朝向第一基底的内表面的方向上增大。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择