[发明专利]一种强场侧注入的激光吹气系统有效

专利信息
申请号: 202110631229.5 申请日: 2021-06-07
公开(公告)号: CN113393947B 公开(公告)日: 2022-10-21
发明(设计)人: 孙平;郑典麟;张凯 申请(专利权)人: 核工业西南物理研究院
主分类号: G21B1/19 分类号: G21B1/19;G21B1/23
代理公司: 核工业专利中心 11007 代理人: 董和煦
地址: 610041 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 强场侧 注入 激光 吹气 系统
【权利要求书】:

1.一种强场侧注入的激光吹气系统,其特征在于:包括激光束、扫描机构、聚焦透镜组和靶片机构,其中,激光束由高能脉冲激光器发出,扫描机构使激光束的光斑在靶片上高速移动扫描;聚焦透镜组安装在扫描机构的腔体上,会聚激光束;靶片机构安装在托卡马克(14)的强场侧,提供注入等离子体中杂质并保护棱镜免受污染;

所述扫描机构包括反射镜(2)、X方向振镜(3)、Y方向振镜(4)、腔体(10)和精密平移台(11),反射镜(2)、X方向振镜(3)、Y方向振镜(4)固定安装在扫描机构腔体(10)内,扫描机构腔体(10)安装在精密平移台(11),精密平移台(11)用于调节扫描机构的位置;

所述聚焦透镜组包括凹透镜(5)、凸透镜(6)和镜筒(12),镜筒(12)安装在扫描机构腔体(10)上,凹透镜(5)、凸透镜(6)安装在镜筒(12)上;

所述靶片机构包括靶片(8)、棱镜(9)和支架(13),窗口玻璃(7)安装在托卡马克(14)的强场侧,支架(13)安装在托卡马克(14)的强场侧的内壁上,靶片(8)安装在支架(13)上,棱镜(9)安装在靶片(8)上;

所述靶片(8)有一半的面积镀膜,未镀膜的部分用于透射激光束(1)并保护棱镜(9)免受污染,镀膜部分提供注入等离子体的杂质源。

2.根据权利要求1所述的一种强场侧注入的激光吹气系统,其特征在于:所述激光束(1)经过反射镜(2)反射后依次投射到X方向振镜(3)和Y方向振镜(4)上。

3.根据权利要求2所述的一种强场侧注入的激光吹气系统,其特征在于:所述X方向振镜(3)和Y方向振镜(4)在控制器控制下可转动其反射面的角度,从而控制激光束(1)的焦斑在靶片上快速移动扫描。

4.根据权利要求3所述的一种强场侧注入的激光吹气系统,其特征在于:所述反射镜(2)固定安装,其反射率大于95%,损伤阈值大于激光束的脉冲能量。

5.根据权利要求4所述的一种强场侧注入的激光吹气系统,其特征在于:所述激光束(1)经Y方向振镜(4)反射后依次经过凹透镜(5)、凸透镜(6)。

6.根据权利要求5所述的一种强场侧注入的激光吹气系统,其特征在于:所述镜筒(12)调整凹透镜(5)和凸透镜(6)的间距,改变聚焦透镜组的焦距,进而改变靶片上激光光斑的大小,从而调节注入等离子体的杂质数量。

7.根据权利要求6所述的一种强场侧注入的激光吹气系统,其特征在于:所述棱镜(9)为直角棱镜。

8.根据权利要求7所述的一种强场侧注入的激光吹气系统,其特征在于:所述激光束(1)经过X方向振镜(3)和Y方向振镜(4)保证与棱镜(9)的角度为90°±0.5°,穿过窗口玻璃(7)和等离子体(15)后投射到靶片(8)未镀膜的部分,然后进入棱镜(9)并在棱镜(9)的两个直角平面上发生两次全反射,激光束(1)光路方向折返和光路平移,投射在靶片(8)镀膜的部分,靶片(8)上的膜吸收激光能量,温度升高并气化产生原子束,这些原子束从强场侧高速进入等离子体。

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