[发明专利]一种空间防静电薄膜天线膜面在审
申请号: | 202110635607.7 | 申请日: | 2021-06-08 |
公开(公告)号: | CN113506972A | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | 傅宇蕾;谢超;张恩杰;彭福军;曾占魁;王治易;李舒扬 | 申请(专利权)人: | 上海宇航系统工程研究所 |
主分类号: | H01Q1/00 | 分类号: | H01Q1/00;H05F1/02 |
代理公司: | 上海航天局专利中心 31107 | 代理人: | 孙瑜 |
地址: | 201109 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 空间 静电 薄膜 天线 | ||
1.一种空间防静电薄膜天线膜面,其特征在于,包括:在薄膜天线外侧涂覆粘接剂,所述粘接剂用于粘附镀层。
2.如权利要求1所述的空间防静电薄膜天线膜面,其特征在于,所述粘接剂包括环氧树脂胶。
3.如权利要求2所述的空间防静电薄膜天线膜面,其特征在于,所述环氧树脂胶的刷胶过程中保证表面平整度,对应X波段至VHF波段平面度为3mm至40mm。
4.如权利要求3所述的空间防静电薄膜天线膜面,其特征在于,所述环氧树脂胶层厚度范围为:30μm以内。
5.如权利要求1所述的空间防静电薄膜天线膜面,其特征在于,所述镀层包括聚酰亚胺镀锗薄膜。
6.如权利要求5所述的空间防静电薄膜天线膜面,其特征在于,所述聚酰亚胺镀锗薄膜厚度范围为:26μm-51μm。
7.如权利要求4所述的空间防静电薄膜天线膜面,其特征在于,在所述镀层外侧,还包覆一层保鲜膜,所述保鲜膜的厚度范围:1μm-3μm。
8.如权利要求1所述的空间防静电薄膜天线膜面,其特征在于,所述薄膜天线结构包括:基底采用聚酰亚胺薄膜,厚度范围:25μm-50μm;上覆铜膜,膜面覆铜形状依照薄膜天线功能而设计。
9.如权利要求1-8任一项所述的空间防静电薄膜天线膜面,其特征在于,对所述空间防静电薄膜天线膜面进行测试和评价,包括电学性能和微波性能指标传输损耗,其中,所述电学性能的指标包括表面电阻率和方块电阻率。
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