[发明专利]一种光刻版翻版机及光刻版翻版系统

说明书

本申请公开了一种光刻版翻版机及光刻版翻版系统，光刻版翻版机包括：底板、上版框、下版框、合页组件结构和曝光单元；下版框位于底板的一侧，上版框通过合页组件结构与下版框活动连接，曝光单元位于上版框远离下版框的一侧；下版框和上版框用于容置待制作的光刻版；曝光单元用于提供光源将待曝光的母版图形接触式曝光至光刻版上，通过上述设置，能够制作得到图形形状、尺寸线宽与母版一致的光刻版，解决了母版上存在尘埃、划伤、沾污等缺陷，曝光后芯片表面存在的缺陷严重影响产品合格率、电学参数和质量的问题，同时大大降低光刻版原材料成本。

技术领域

本申请涉及半导体制作领域，具体而言，涉及一种光刻版翻版机及光刻版翻版系统。

背景技术

在现有的半导体制作工艺中，涉及线路蚀刻等工艺时，需要利用母版进行线路图像的获取。由于半导体产品的生产数量较多，母版会被大量的使用，这使得母版会出现尘埃、划伤、沾污等缺陷，进而导致曝光后芯片表面存在的缺陷严重影响产品合格率、电学参数和质量的问题。不仅如此，母版的制作成本较高，这在一定程度上使得生产原料成本增加。

发明内容

本申请提供一种光刻版翻版机及光刻版翻版系统。

第一方面，本申请实施例提供一种光刻版翻版机，包括底板、上版框、下版框、合页组件结构和曝光单元；

下版框位于底板的一侧，上版框通过合页组件结构与下版框活动连接，曝光单元位于上版框远离下版框的一侧；

下版框和上版框用于容置待制作的光刻版；

曝光单元用于提供光源将待曝光的母版图形接触式曝光至光刻版上。

在一种可能的实施方式中，上版框包括上凹槽、下版框包括下凹槽；

上凹槽和下凹槽形状彼此匹配，上凹槽和下凹槽的尺寸与母版图形匹配。

在一种可能的实施方式中，上凹槽包括环形密封垫、通孔和限位条；

环形密封垫位于上凹槽中；

通孔开设于上凹槽的一侧，限位条贯穿通孔，限位条用于固定环形密封垫。

在一种可能的实施方式中，还包括支撑杆；

支撑杆的一侧与底板活动连接，支撑杆用于在上版框和下版框处于打开状态时提供支撑力。

在一种可能的实施方式中，合页组件结构的一侧位于上版框的边缘，另一侧位于下版框的边缘。

在一种可能的实施方式中，曝光单元包括发光子单元，发光子单元用于提供预设波长的光源照射至上版框上。

第二方面，本申请实施例提供一种光刻版翻版系统，包括控制单元和第一方面至少一种可能的实施方式中的光刻版翻版机，控制单元与光刻版翻版机电性连接；

控制单元用于根据接收的真空检测指令，检测上版框和下版框之间是否为真空；根据接收的曝光指令，控制曝光单元将待曝光的母版图形接触式曝光至光刻版上。

在一种可能的实施方式中，控制单元还用于根据接收的材料检测指令，判断光刻版的材料类型；根据材料类型，向曝光单元发送曝光参数配置指令，以使曝光单元配置对应波长的光源和曝光时间。

在一种可能的实施方式中，还包括层流罩，层流罩围设于控制单元和光刻版翻版机，层流罩用于形成保护控制单元和光刻版翻版机。

在一种可能的实施方式中，层流罩包括排风单元、粗效过滤器和高效过滤器，排风单元、粗效过滤器和高效过滤器用于配合将层流罩中的灰尘排出。