[发明专利]一种显示面板及其制作方法和显示装置有效
申请号: | 202110638552.5 | 申请日: | 2021-06-08 |
公开(公告)号: | CN113380969B | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
发明(设计)人: | 葛树成;蔡雨 | 申请(专利权)人: | 武汉天马微电子有限公司 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32 |
代理公司: | 北京允天律师事务所 11697 | 代理人: | 陈莎莎 |
地址: | 430040 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
提供衬底基板和掩膜板,所述衬底基板包括:基底;位于基底一侧的发光单元层,所述发光单元层包括多个发光单元;像素定义层,所述像素定义层包括多个与所述发光单元对应的第一开口,所述发光单元位于所述第一开口内;位于所述像素定义层背离所述基底一侧的待刻蚀折射层;所述掩膜板包括多个与所述第一开口对应的开孔,相对应的所述第一开口和所述开孔的尺寸相同;
将掩膜板与所述衬底基板以在第一方向且第二方向上的预设偏差进行对位后,通过所述开孔对所述待刻蚀折射层进行曝光,所述第一方向和所述第二方向平行所述衬底基板所在平面,且所述第一方向和所述第二方向相互垂直;
在对所述待刻蚀折射层进行曝光后,包括:
对所述待刻蚀折射层的曝光区域进行显影后得到第一折射层,所述第一折射层包括多个对应曝光区域的第二开口,所述第二开口与所述第一开口对应;在所述第一方向上,具有第一偏移的相对应的所述第一开口与所述第二开口的数量,与具有第二偏移的相对应的所述第一开口与所述第二开口的数量的差异在允许范围内,所述第一偏移和所述第二偏移的方向相反;及,在所述第二方向上,具有第三偏移的相对应的所述第一开口与所述第二开口的数量,与具有第四偏移的相对应的所述第一开口与所述第二开口的数量的差异在允许范围内,所述第三偏移和所述第四偏移的方向相反;
在所述第一方向上,具有第一偏移的相对应的所述第一开口与所述第二开口的数量,与具有第二偏移的相对应的所述第一开口与所述第二开口的数量的差异不大于5%;
及在所述第二方向上,具有第三偏移的相对应的所述第一开口与所述第二开口的数量,与具有第四偏移的相对应的所述第一开口与所述第二开口的数量的差异不大于5%。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述预设偏差的获取方法包括:
提供辅助衬底基板和辅助掩膜板,所述辅助衬底基板与所述衬底基板相同,且所述辅助掩膜板与所述掩膜板相同;所述辅助衬底基板包括:辅助基底;位于辅助基底一侧的辅助发光单元层,所述辅助发 光单元层包括多个辅助发光单元;辅助像素定义层,所述辅助像素定义层包括多个与所述辅助发光单元对应的辅助第一开口,所述辅助发光单元位于所述辅助第一开口内;位于所述辅助像素定义层背离所述辅助基底一侧的辅助待刻蚀折射层;所述辅助掩膜板包括多个与所述辅助第一开口对应的辅助开孔,相对应的所述辅助第一开口和所述辅助开孔的尺寸相同;
将所述辅助掩膜板与所述辅助衬底基板以在第一方向且第二方向上无偏差进行对位后,通过所述辅助开孔对所述辅助待刻蚀折射层进行曝光;
对所述辅助待刻蚀折射层的曝光区域进行显影后得到辅助第一折射层,所述辅助第一折射层包括多个对应曝光区域的辅助第二开口,所述辅助第二开口与所述辅助第一开口对应;
根据相对应的所述辅助第一开口和所述辅助第二开口,在所述第一方向和所述第二方向的偏移情况确定所述预设偏差。
3.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述第一偏移和所述第二偏移的偏移值的范围为(0~0.8μm];
所述第三偏移和所述第四偏移的偏移值的范围为(0~0.8μm]。
4.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,在形成所述第一折射层后,还包括:
在所述第一折射层背离所述基底一侧形成第二折射层,所述第二折射层覆盖所述第一折射层及所述第二开口,且所述第二折射层的折射率大于所述第一折射层的折射率。
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