[发明专利]一种防伪膜的制作方法及防伪膜

权利要求书

1.一种防伪膜的制作方法，其特征在于，包括：

S1，提供基膜，在所述基膜第一表面涂布第一树脂层，在所述第一树脂层上形成具有镭射效果的微结构，形成镭射效果微结构；

S2，进一步处理所述基膜第一表面，去除微图文位置以外的镭射效果微结构，保留微图文位置的镭射效果微结构。

2.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述步骤S1中，在所述第一树脂层上形成具有镭射效果的微结构，形成镭射效果微结构包括：提供第一模具，所述第一模具上具有镭射效果的微结构；通过所述第一模具压印于所述第一树脂层上，将镭射效果的微结构复制在所述第一树脂层上；固化。

3.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述步骤S2包括：提供第二模具，所述第二模具具有接触面以及由所述接触面凹陷形成的凹槽结构，所述凹槽结构形成微图文的图案；将所述第二模具与所述第一树脂层贴合并进行热压，与所述接触面接触的第一树脂层的镭射效果微结构被压平而消失，失去镭射效果，而与凹槽结构位置对应的第一树脂层的镭射效果微结构仍然保留。

4.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述步骤S2之后还包括：在所述第一树脂层上镀膜。

5.如权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述步骤S2后，还包括：S3，在所述基膜与所述第一表面相对的第二表面制备形成微透镜阵列层，所述微透镜阵列层中微透镜与所述步骤S2获得的镭射效果微结构相对应，使微图文位于微透镜的焦面附近。

6.如权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述步骤S3中，所述在所述基膜与所述第一表面相对的第二表面制备形成微透镜阵列层包括：提供第三模具，第三模具上具有对应的阵列微透镜的微结构；在所述基膜第二表面涂布第二树脂层；用所述第三模具对所述第二树脂层进行压印，从而在所述基膜第二表面复制制备形成微透镜阵列层。

7.一种防伪膜，其特征在于，包括基膜以及位于所述基膜一侧表面的第一树脂层，所述第一树脂层在微图文位置具有镭射效果微图文微结构，而微图文位置以外的位置不具有镭射效果微结构。

8.如权利要求7所述的防伪膜，其特征在于，所述第一树脂层上，微图文位置以外的位置低于微图文位置。

9.如权利要求7所述的防伪膜，其特征在于，还包括位于所述基膜另一侧表面的微透镜阵列层，所述微透镜阵列层中微透镜与所述镭射效果微结构相对应，使微图文位于微透镜的焦面附近。

10.如权利要求9所述的防伪膜，其特征在于，所述微透镜阵列层是对所述基膜表面涂布的第二树脂层压印形成。