[发明专利]一种铝合金微弧氧化膜层抗腐蚀浸泡实验设备在审

专利信息
申请号: 202110645495.3 申请日: 2021-06-10
公开(公告)号: CN115468898A 公开(公告)日: 2022-12-13
发明(设计)人: 肖仕林 申请(专利权)人: 苏州微弧达材料科技有限公司
主分类号: G01N17/00 分类号: G01N17/00;C25D11/02;C25D11/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215400 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 铝合金 氧化 膜层抗 腐蚀 浸泡 实验 设备
【说明书】:

发明公开了一种铝合金微弧氧化膜层抗腐蚀浸泡实验设备,包括装置主体,所述装置主体的上端安装有保护盖,所述保护盖的上端设置有拉手,所述装置主体的外侧设置有旋转柄,所述旋转柄的内部安装有放置框,所述放置框的上方设置有固位板,所述装置主体的内部开设有第一内置槽,所述第一内置槽的内部安装有抽拉抽屉,所述抽拉抽屉的内部开设有拉槽,所述装置主体的外侧设置有排液口,所述排液口的上端安装有移动块,所述连接杆的外端安装有密闭塞。本发明公开了一种铝合金微弧氧化膜层抗腐蚀浸泡实验设备,操作方便,便于记录数据,放置测试物时方便不需要过多的人力操作,保护了操作人员的安全。

技术领域

本发明涉及氧化膜层加工技术领域,具体为一种铝合金微弧氧化膜层抗腐蚀浸泡实验设备。

背景技术

在半导体器件的制造上,氧化膜具有极为重要的作用。其被利用为MOS晶体管的棚级氧化膜、PN接合部的保护膜、杂质扩散的光罩。在半导体器件的制造上,氧化膜具有极为重要的作用。其被利用为MOS晶体管的棚级氧化膜、PN接合部的保护膜、杂质扩散的光罩。制造氧化膜的代表例有:热氧化法及气相成长法(CVD法)。

现有技术存在以下缺陷或问题:当氧化膜层在投入使用前需要进行多种实验,保证质量过关,但是现有的实验设备操作麻烦,且腐蚀液体操作不当时便会产生一定的危险,对操作者造成不必要的伤害。

发明内容

本发明的目的在于针对现有技术的不足之处,提供一种铝合金微弧氧化膜层抗腐蚀浸泡实验设备,以解决背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种铝合金微弧氧化膜层抗腐蚀浸泡实验设备,包括装置主体,所述装置主体的上端安装有保护盖,所述保护盖的上端设置有拉手,所述装置主体的外侧设置有旋转柄,所述旋转柄的内部安装有放置框,所述放置框的上方设置有固位板,所述装置主体的内部开设有第一内置槽,所述第一内置槽的内部安装有抽拉抽屉,所述抽拉抽屉的内部开设有拉槽,所述装置主体的外侧设置有排液口,所述排液口的上端安装有移动块,所述移动块的外置设置有连接杆,所述连接杆的外端安装有密闭塞。

作为本发明的优选技术方案,所述保护盖的下方设置有密闭条,所述密闭条的外径与装置主体的内径相适配,所述保护盖通过密闭条卡扣连接装置主体,所述拉手为一种半弧形构件,所述拉手固定连接保护盖。

作为本发明的优选技术方案,所述旋转柄的右侧设置有第一齿轮,所述装置主体对应旋转柄处开设有与旋转柄外径相适配的小孔,所述旋转柄旋转连接装置主体,所述旋转柄固定连接第一齿轮。

作为本发明的优选技术方案,所述第一齿轮的上方安装有第二齿轮,所述第一齿轮啮合连接第二齿轮,所述放置框的左端固定连接第二齿轮,所述放置框对应装置主体的内部开设有与放置框外径相适配的小孔,所述放置框旋转连接装置主体。

作为本发明的优选技术方案,所述固位板的下方设置有滑动块,所述滑动块共设置有四个,分别置于固位板的四角底端,所述滑动块顶端固定连接固位板的底端,所述放置框对应滑动块处开设有第二内置槽。

作为本发明的优选技术方案,所述第二内置槽的顶端内部设置有T型塞,所述T型塞共设置有两个,对称置于第二内置槽的内部,所述T型塞为一种T型构件,且T型塞顶端为橡胶材质,所述滑动块底端两侧的小孔与T型塞后端的外径相适配,所述滑动块卡扣连接T型塞。

作为本发明的优选技术方案,所述抽拉抽屉的底端两侧设置有固定块,所述抽拉抽屉固定连接固定块,所述第一内置槽内部设置有第一限位杆,所述固定块滑动连接第一限位杆,所述抽拉抽屉通过固定块滑动连接第一内置槽。

作为本发明的优选技术方案,所述排液口固定连接装置主体,所述移动块的内部设置有旋转杆,所述旋转杆固定连接移动块移动块,所述连接杆旋转连接旋转杆,所述排液口的内部设置有第二限位杆,所述移动块通过第二限位杆滑动连接排液口,所述连接杆胶合连接密闭塞。

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