[发明专利]SUMF2基因在制备预防和/或治疗过敏性哮喘发作及降低气道高反应的药物中的应用在审

专利信息
申请号: 202110652057.X 申请日: 2021-06-11
公开(公告)号: CN113384714A 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 姜蒙;姜晓峰;高会军;李宾;孙文轩;郑晔;佟明斯 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: A61K48/00 分类号: A61K48/00;A61K38/17;A61P11/06;A61P37/08
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 薛红凡
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: sumf2 基因 制备 预防 治疗 过敏性 哮喘 发作 降低 气道高 反应 药物 中的 应用
【说明书】:

发明提供了SUMF2基因在制备预防过敏性哮喘发作及降低气道高反应的药物中的应用,属于生物医学技术领域。本发明通过生物信息学技术和动物实验验证SUMF1/2‑糖胺聚糖代谢途径异常使上皮细胞产生类似免疫记忆现象,当再次接触过敏原时可促进TH2反应。本发明在诱发哮喘前20天,利用腺相关病毒载体过表达小鼠气道上皮细胞来源的SUMF2基因,与对照组相比,可明显改善哮喘小鼠肺部气道炎症反应。因此过表达SUMF2可作为预防过敏性哮喘及降低气道高反应的基因治疗靶点。因此利用腺相关病毒过表达SUMF2用于过敏性哮喘的预防领域,具有广阔应用价值和市场前景。

技术领域

本发明属于生物医学技术领域,具体涉及SUMF2基因在制备预防和/或治疗过敏性哮喘发作及降低气道高反应的药物中的应用。

背景技术

过敏性哮喘是支气管哮喘的一种特殊类型。目前,过敏性哮喘的治疗以支气管舒张剂,白三烯受体拮抗剂和激素类药物为主。严重的3级以上哮喘则需要添加长效胆碱能受体拮抗剂、抗IgE、抗IL-5或抗IL-4R进行治疗。这些药物在哮喘发病后主要用来降低气道炎症反应、缓解平滑肌痉挛,但对炎症损伤引起的气道重塑作用有限。尽管治疗可延缓哮喘疾病进展,但炎症导致的气道重塑是不可逆的,最终会引起不可逆转的气流受限。因此,除常规炎症抑制和平滑肌舒张等治疗策略外,临床亟需一种以预防过敏性哮喘发作为主的治疗方法,通过减少患者的发病次数,从根本上降低炎症导致的气道重塑。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的在于提供SUMF2基因在制备预防和/或治疗过敏性哮喘发作及降低气道高反应的药物中的应用,所述SUMF2基因的高表达能够提高气道上皮细胞(AECs)启动过敏反应的所需最小过敏原的阈值,从而达到预防哮喘发作和降低气道高反应的目的。

本发明提供了SUMF2基因在制备预防和/或治疗过敏性哮喘发作及降低气道高反应的药物中的应用。

优选的,所述SUMF2基因的核苷酸序列如SEQ ID NO:1所示。

优选的,所述SUMF2基因联合基因载体在制备预防和/或治疗过敏性哮喘发作及降低气道高反应的药物中的应用。

优选的,所述基因载体包括腺相关病毒包装系统。

优选的,所述腺相关病毒包装系统包括用于插入外源基因的穿梭质粒、编码Rep和Cap蛋白的pAAV6-RC质粒和表达腺病毒蛋白的pHelper质粒。

本发明提供了一种用于预防和/或治疗过敏性哮喘发作及降低气道高反应的药物,包括肺气道上皮细胞来源的SUMF2基因。

优选的,所述药物还包括所述SUMF2基因的基因载体。

优选的,所述基因载体包括腺相关病毒包装系统。

优选的,所述腺相关病毒包装系统包括用于插入外源基因的穿梭质粒、编码Rep和Cap蛋白的pAAV6-RC质粒和表达腺病毒蛋白的pHelper质粒。

本发明提供了SUMF2基因在制备预防和/或治疗过敏性哮喘发作及降低气道高反应的药物中的应用。本发明通过大量实验表明,哮喘发生时气道上皮细胞(AECs)中的糖胺聚糖(Glycosaminoglycan,GAG)代谢会因硫酸酯酶修饰因子1/2(SUMF1/2)的相对表达量升高而改变,且这种变化即使在脱离过敏原、TH2反应消退后的数周后也不会恢复正常。当机体再次接触过敏原时,持续活化的溶酶体-MHCⅡ类抗原提呈途径和失去GAG束缚的细胞因子将加剧AECs介导的炎症反应。鉴于此,本发明通过靶向气道上皮细胞中的SUMF2基因,通过在气道上皮细胞中过表达SUMF2基因,抑制了溶酶体和MHCⅡ相关基因的表达,抑制溶酶体中糖胺聚糖的代谢,阻断TH2炎症反应。本发明SUMF2基因的过表达提高AECs启动过敏反应所需要抗原的阈值,从而达到预防哮喘发作和降低气道高反应的目的。

附图说明

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学,未经哈尔滨工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110652057.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top