[发明专利]一种气体检测用双带通窄带滤光片及制作方法

权利要求书

1.一种气体检测用双带通窄带滤光片，其特征在于，包括基板(1)、主膜系结构(2)以及干涉截止膜系结构(3)，所述的主膜系结构(2)和干涉截止膜系结构(3)分别设置于所述基板(1)的两侧，所述主膜系结构(2)和所述干涉截止膜系结构(3)均以锗和一氧化硅为镀膜材料，与所述基板(1)相邻的膜层为第一层；

所述主膜系结构(2)采用共计有47层几何厚度的结构，所述主膜系结构(2)中第一层为锗膜层，最后一层为锗膜层，偶数层均为一氧化硅膜层，奇数层均为锗膜层，设计波长为3900nm；所述主膜系结构(2)中：第1层几何厚度为1175.84nm；第2层几何厚度为302.13nm；第3层几何厚度为999.52nm；第4层几何厚度为401.76nm；第5层几何厚度为892.02nm；第6层几何厚度为496.11nm；第7层几何厚度为414.26nm；第8层几何厚度为637.26nm；第9层几何厚度为188.61nm；第10层几何厚度为480.18nm；第11层几何厚度为214.56nm；第12层几何厚度为175.24nm；第13层几何厚度为104.31nm；第14层几何厚度为700.14nm；第15层几何厚度为220.88nm；第16层几何厚度为468.58nm；第17层几何厚度为215.90nm；第18层几何厚度为1186.44nm；第19层几何厚度为146.95nm；第20层几何厚度为438.21nm；第21层几何厚度为236.08nm；第22层几何厚度为654.32nm；第23层几何厚度为476.37nm；第24层几何厚度为493.21nm；第25层几何厚度为229.02nm；第26层几何厚度为633.65nm；第27层几何厚度为293.57nm；第28层几何厚度为476.83nm；第29层几何厚度为100.43nm；第30层几何厚度为179.6nm；第31层几何厚度为220.46nm；第32层几何厚度为501.88nm；第33层几何厚度为205.84nm；第34层几何厚度为1286.99nm；第35层几何厚度为201.95nm；第36层几何厚度为394nm；第37层几何厚度为127.31nm；第38层几何厚度为382.37nm；第39层几何厚度为192.4nm；第40层几何厚度为492.21nm；第41层几何厚度为222.87nm；第42层几何厚度为1191.05nm；第43层几何厚度为121.45nm；第44层几何厚度为703.46nm；第45层几何厚度为236.75nm；第46层几何厚度为1169.74nm；第47层几何厚度为153.54nm；

所述干涉截止膜系结构(3)采用共计有42层几何厚度的结构，所述干涉截止膜系结构(3)中第一层为锗膜层，最后一层为一氧化硅膜层，偶数层均为一氧化硅膜层，奇数层均为锗膜层，设计波长为1400nm；所述干涉截止膜系结构(3)中：第1层几何厚度为65.08nm；第2层几何厚度为141.53nm；第3层几何厚度为108.85nm；第4层几何厚度为193.53nm；第5层几何厚度为67.98nm；第6层几何厚度为230.76nm；第7层几何厚度为72.9nm；第8层几何厚度为224.18nm；第9层几何厚度为87.92nm；第10层几何厚度为142.18nm；第11层几何厚度为117.18nm；第12层几何厚度为146.48nm；第13层几何厚度为83.65nm；第14层几何厚度为236.15nm；第15层几何厚度为61.58nm；第16层几何厚度为406.54nm；第17层几何厚度为84.64nm；第18层几何厚度为360.26nm；第19层几何厚度为82.92nm；第20层几何厚度为402.94nm；第21层几何厚度为132.66nm；第22层几何厚度为160.62nm；第23层几何厚度为192.07nm；第24层几何厚度为381.77nm；第25层几何厚度为56.66nm；第26层几何厚度为451.21nm；第27层几何厚度为132.57nm；第28层几何厚度为313.82nm；第29层几何厚度为91.12nm；第30层几何厚度为349.7nm；第31层几何厚度为506.17nm；第32层几何厚度为1082.94nm；第33层几何厚度为454.03nm；第34层几何厚度为1072.78nm；第35层几何厚度为474.3nm；第36层几何厚度1064.21nm；第37层几何厚度为448.05nm；第38层几何厚度为1077.17nm；第39层几何厚度为480.36nm；第40层几何厚度为1054.08nm；第41层几何厚度为407nm；第42层几何厚度为463.88nm。