[发明专利]一种镀膜设备靶位的功率调整方法、装置、控制器及存储介质

权利要求书

1.一种镀膜设备靶位的功率调整方法，其特征在于，包括：

实时获取玻璃距靶位的距离；

判断玻璃距靶位的距离是否小于预设的距离阈值；

若玻璃距靶位的距离小于预设的距离阈值，控制靶位的功率为预设的第一功率值；

若玻璃距靶位的距离不小于预设的距离阈值，控制靶位的功率为预设的第二功率值；

其中，第二功率值小于第一功率值。

2.根据权利要求1所述的镀膜设备靶位的功率调整方法，其特征在于，所述实时获取玻璃距靶位的距离，包括：

检测玻璃是否到达镀膜室的入口；

若检测到玻璃到达镀膜室的入口，开始记录玻璃的传输时间；

根据玻璃的运输时间以及传输速度计算玻璃距镀膜室的入口的距离；

根据玻璃距镀膜室的入口的距离以及靶位距镀膜室的入口的距离计算玻璃距靶位的距离。

3.根据权利要求2所述的镀膜设备靶位的功率调整方法，其特征在于，所述检测玻璃是否到达镀膜室的入口，包括：

通过传感器检测玻璃是否到达镀膜室的入口。

4.根据权利要求2所述的镀膜设备靶位的功率调整方法，其特征在于，所述根据玻璃距镀膜室的入口的距离以及靶位距镀膜室的入口的距离计算玻璃距靶位的距离，包括：

计算玻璃距镀膜室的入口的距离与靶位距镀膜室的入口的距离的差的绝对值作为玻璃距靶位的距离。

5.根据权利要求1所述的镀膜设备靶位的功率调整方法，其特征在于，所述距离阈值为50-200mm。

6.一种镀膜设备靶位的功率调整装置，其特征在于，包括用于执行如权利要求1-5任一项所述方法的单元。

7.一种镀膜设备，其特征在于，包括控制器、镀膜室及靶位，靶位设于镀膜室内，靶位与控制器连接且受控于控制器，所述控制器用于执行如权利要求1-5任一项所述的方法。

8.根据权利要求7所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括传感器，所述传感器设于镀膜室的入口。

9.根据权利要求7所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括玻璃传输装置，所述玻璃传输装置依次穿过镀膜室的入口以及出口，所述玻璃传输装置用于传输玻璃。

10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述存储介质存储有计算机程序，所述计算机程序当被处理器执行时可实现如权利要求1-5任一项所述的方法。