[发明专利]一种基于RRAM的非易失性可配置下拉电阻网络在审

专利信息
申请号: 202110659754.8 申请日: 2021-06-15
公开(公告)号: CN113393985A 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 吴佳;李礼;吴叶楠 申请(专利权)人: 上海威固信息技术股份有限公司
主分类号: H01C1/16 分类号: H01C1/16;H01L45/00
代理公司: 上海海贝律师事务所 31301 代理人: 王文锋
地址: 201702 上海市青*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 rram 非易失性可 配置 下拉 电阻 网络
【权利要求书】:

1.一种基于双极性RRAM的非易失性可配置下拉电阻网络,其特征在于:包括并联的n个子电路,即由子电路1至子电路n并联构成,其中,n为并联的可配置电阻数;输入端口A、输出端口B、使能端口为EN、电阻配置值端口K0至Kn、电源端口VDD和地端口GND;其中,每个子电路包括RRAMx,RRAMx的一端与第一单元的一个NMOS晶体管相连,另一端与第二单元的一个NMOS晶体管相连;第一单元与第二单元为同构体即结构相同,均包括并联的两个限流电阻;其中一个限流电阻与一组PMOS晶体管相连,另外一个限流电阻与一组NMOS晶体管相连;一组PMOS晶体管当中的一个PMOS晶体管与使能EN、电源VDD相连,另一个PMOS晶体管与配置端口Kx相连;一组NMOS晶体管当中的一个NMOS晶体管与地GND、信号BEN相连,另一个NMOS晶体管与配置端口Kx相连。

2.根据权利要求1所述的一种基于双极性RRAM的非易失性可配置下拉电阻网络,其特征在于:第一PMOS晶体管、第二PMOS晶体管为一组,连接于第一限流电阻R1的一端,第一NMOS晶体管、第二NMOS晶体管为一组,连接于第二限流电阻R2的一端;第三PMOS晶体管、第四PMOS晶体管为一组,连接于第三限流电阻R3的一端,第三NMOS晶体管、第四NMOS晶体管为一组,连接于第四限流电阻R4的一端;

第一PMOS晶体管的漏极连接第二PMOS晶体管的源极,第一PMOS晶体管的源极连接电源VDD,第一PMOS晶体管的栅极连接信号EN,第一PMOS晶体管的体连接电源VDD;

第二PMOS晶体管的漏极连接第一限流电阻R1的一端,第二PMOS晶体管的源极连接第一PMOS晶体管的漏极,第二PMOS晶体管的栅极连接配置端口Kx,第二PMOS晶体管的体连接电源VDD;

第三PMOS晶体管的漏极连接第四PMOS晶体管的源极,第三PMOS晶体管的源极连接电源VDD,第三PMOS晶体管的栅极连接信号EN,第三PMOS晶体管的体连接电源VDD;

第四PMOS晶体管的漏极连接第三限流电阻R3的一端,第四PMOS晶体管的源极连接第三PMOS晶体管的漏极,第四PMOS晶体管的栅极连接信号BKx,第四PMOS晶体管的体连接电源VDD;

第一NMOS晶体管的漏极连接第二NMOS晶体管的源极,第一NMOS晶体管的源极连接地GND,第一NMOS晶体管的栅极连接信号BEN,第一NMOS晶体管的体连接地GND;

第二NMOS晶体管的漏极连接第二限流电阻R2的一端,第二NMOS晶体管的源极连接第一NMOS晶体管的漏极,第二NMOS晶体管的栅极连接配置端口Kx,第二NMOS晶体管的体连接地GND;

第三NMOS晶体管的漏极连接第四NMOS晶体管的源极,第三NMOS晶体管的源极连接地GND,第三NMOS晶体管的栅极连接信号BEN,第三NMOS晶体管的体连接地GND;

第四NMOS晶体管的漏极连接第四限流电阻R4的一端,第四NMOS晶体管的源极连接第三NMOS晶体管的漏极,第四NMOS晶体管的栅极连接信号BKx,第四NMOS晶体管的体连接地GND;

第五NMOS晶体管的漏极连接端口A,第五NMOS晶体管的源极和体连接RRAMx的端口P,第五NMOS晶体管的栅极连接信号EN;

第六NMOS晶体管的漏极连接RRAMx的端口Q,第六PMOS晶体管的源极和体连接端口B,第六PMOS晶体管的栅极连接信号EN;

第一限流电阻R1的一端连接第二PMOS晶体管的漏极,另一端连接RRAMx的端口P;

第二限流电阻R2的一端连接第二NMOS晶体管的漏极,另一端连接RRAMx的端口P;

第三限流电阻R3的一端连接第四PMOS晶体管的漏极,另一端连接RRAMx的端口Q;

第四限流电阻R4的一端连接第四NMOS晶体管的漏极,另一端连接RRAMx的端口Q。

3.根据权利要求2所述的一种基于双极性RRAM的非易失性可配置下拉电阻网络,其特征在于:包括第一反相器,所述第一反相器的输入端连接配置端口Kx,输出端连接信号BKx,输入配置Kx通过所述第一反相器产生反相配置信号BKx。

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