[发明专利]一种用于制备纳米团簇的磁控溅射阴极靶

权利要求书

1.一种用于制备纳米团簇的磁控溅射阴极靶，其特征在于：包括连接杆、与连接杆一端设置磁钢的靶头、密封套设在靶头外的靶罩，所述靶头内设置有空腔，所述靶头端部固定有阴极溅射板，所述靶罩与靶头密封固定时所述阴极溅射板露出；所述靶罩上环设有与若干个与靶罩连通的喷口，所述靶头上设置有进气接口，所述靶头内部设置有与进气接口连通的均气机构。

2.根据权利要求1所述的一种用于制备纳米团簇的磁控溅射阴极靶，其特征在于：所述靶头远离与连接杆固定端设置为敞口，所述阴极溅射板通过固定架固定在靶头的敞口处，所述靶罩中部设有有通孔，所述通孔位置有阴极溅射板位置相对应。

3.根据权利要求1所述的一种用于制备纳米团簇的磁控溅射阴极靶，其特征在于：所述进气接口对称设置在靶头上，且所述靶头与靶罩固定时，所述靶头位于靶罩外部。

4.根据权利要求1所述的一种用于制备纳米团簇的磁控溅射阴极靶，其特征在于：所述均气机构包括固定在靶头内部的环形气管和周向设置在环形气管上的若干个出气口，所述环形气管与进气接口连通。

5.根据权利要求1所述的一种用于制备纳米团簇的磁控溅射阴极靶，其特征在于：所述靶头内设置有支撑板，所述磁钢成排固定在支撑板上。

6.根据权利要求1所述的一种用于制备纳米团簇的磁控溅射阴极靶，其特征在于：所述连接杆包括两端的两固定杆和设置有在两固定杆之间的波纹管，两所述固定杆上均设置铰接有可调安装件。

7.根据权利要求6所述的一种用于制备纳米团簇的磁控溅射阴极靶，其特征在于：所述可调安装件包括与固定杆铰接的且底部设置有外螺纹的支撑柱、与支撑柱螺纹连接的支撑筒和固定在支撑筒底部的安装盘，所述支撑筒内设置有用于收纳支撑柱螺纹部的容腔。

8.根据权利要求7所述的一种用于制备纳米团簇的磁控溅射阴极靶，其特征在于：所述固定杆底部设置有安装块，所述支撑柱通过安装块与固定杆铰接。