[发明专利]一种石墨-气凝胶双层均热膜的制备方法

权利要求书

1.一种石墨-气凝胶双层均热膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

(1)将憎水二氧化硅粉末、氢氧化钠、乙醇混合，得到改性硅酸钠溶液；

(2)将改性硅酸钠溶液加入无机酸溶液中，过滤，得到改性硅溶胶；

(3)将改性硅溶胶涂覆到经过刻蚀后表面呈酸性的石墨片上，加热，获得石墨-改性硅凝胶复合膜；

(4)将石墨-改性硅凝胶复合膜进行溶剂交换后干燥，即获得石墨-气凝胶双层均热膜。

2.根据权利要求1所述的石墨-气凝胶双层均热膜的制备方法，其特征在于：所述憎水二氧化硅粉末的粒径为2-100nm。

3.根据权利要求1所述的石墨-气凝胶双层均热膜的制备方法，其特征在于：所述改性硅酸钠的模数为1.5-3.0。

4.根据权利要求3所述的石墨-气凝胶双层均热膜的制备方法，其特征在于：所述憎水二氧化硅粉末与氢氧化钠的质量比为1:0.5-2.5，所述憎水二氧化硅粉末与氢氧化钠的总质量与乙醇的质量比为0.03-0.3:1。

5.根据权利要求1所述的石墨-气凝胶双层均热膜的制备方法，其特征在于：所述无机酸溶液为硫酸溶液或硝酸溶液。

6.根据权利要求1所述的石墨-气凝胶双层均热膜的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中的过滤方法为真空过滤、离心过滤或压板过滤中的一种。

7.根据权利要求1所述的石墨-气凝胶双层均热膜的制备方法，其特征在于：所述石墨片为天然石墨片、氟化石墨片、鳞片石墨片或人工石墨片中的一种，所述石墨片的厚度为10-100μm。

8.根据权利要求1所述的石墨-气凝胶双层均热膜的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中的刻蚀方法包括等离子体刻蚀、光刻蚀、化学气相刻蚀中的一种或多种，刻蚀厚度为1-5μm，刻蚀后的石墨片表面具有酸性基团。

9.根据权利要求1所述的石墨-气凝胶双层均热膜的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中刻蚀后在石墨片表面形成凹槽，所述凹槽的深度为1-5μm。

10.根据权利要求9所述的石墨-气凝胶双层均热膜的制备方法，其特征在于：所述凹槽的形状为直角沟槽或三角沟槽。