[发明专利]一种合成革用高粘接耐涂鸦有机硅助剂及其制备方法

权利要求书

1.一种合成革用高粘接耐涂鸦有机硅助剂，其特征在于：该助剂由组分A 以及组分B组成，

其中，按质量份计，

组分A 的组分以及配比为：20.0～80.0 份基料、5.0～10.0 份有机硅树脂、5.0～10.0份交联剂、0.05～0.5 份抑制剂、1.0～8.0 份粘接促进剂、3.0～10.0 份防涂鸦助剂、5.0～20.0 份消光粉以及20.0～80.0 份溶剂；

组分B 组分以及配比为:1.5～1.95 份甲基乙烯基聚硅氧烷、1.0～5.0 份耐磨剂以及0.05～0.5 份改性铂金催化剂；

其中，基料的配比为：55.0～85.0 份的甲基乙烯基聚硅氧烷、3.0～8.0 份甲基苯基硅油、5.0～8.0 份的处理剂以及8.0～40.0 份的白炭黑；

所述粘接促进剂为改性有机硅聚硅氧烷，粘接促进剂如结构式（1）

（1）

其中，3≤m≤8，2≤n≤6；

所述有机硅树脂为乙烯基MQ 树脂，乙烯基MDT 树脂，乙烯基MDQ 树脂中的一种或者多种的复配，乙烯基含量为0.05～5.0wt%，粘度为1000～300000mPa.s。

2.根据权利要求1 所述的有机硅助剂，其特征在于，组分A 与组分B 按照质量比为100：(1～5)比例混合。

3.根据权利要求1 所述的有机硅助剂，其特征在于，所述甲基乙烯基聚硅氧烷，乙烯基含量为0.01～5.0wt%，粘度为1000～300000mPa.s。

4.根据权利要求1 所述的有机硅助剂，其特征在于，所述处理剂选自乙烯基双封头，六甲基二硅氮烷，四甲基四乙烯基环四硅氧烷，二甲基二氯硅烷其中的一种或者几种的复配。

5.根据权利要求1 所述的有机硅助剂，其特征在于，所述白炭黑为疏水型白炭黑，比表面积在80～300m2/g；所述交联剂选自含氢硅油或者含氢树脂。

6.根据权利要求1 所述的有机硅助剂，其特征在于，所述防涂鸦助剂为改性有机硅含氟硅油，如结构式（2），

（2）

其中，10≤k≤20，3≤l≤8。

7.根据权利要求1 所述的有机硅助剂，其特征在于，所述溶剂选自甲苯，二甲苯，异构烷烃，正庚烷，N，N-二甲基甲酰胺，乙酸乙酯其中的一种或者的混合物；所述消光粉为沉淀法白炭黑，粒径在2～10 微米；所述耐磨剂为有机硅相变树脂微球粉体，粒径在0.5～5 微米。

8.根据权利要求1 所述的有机硅助剂，其特征在于，所述改性铂金催化剂的铂含量为500～200000ppm；其制备步骤如下：50℃下，在500 mL 烧杯中，一次性加入相变型甲基苯基树脂100～200g，折射率1.54，甲苯80～120g，将其溶解均匀，再加入卡斯特催化剂5～10g，使其混合均匀，然后低温减压蒸馏旋蒸去掉甲苯，得到树脂包覆铂金的改性催化剂。

9.根据权利要求5 所述的有机硅助剂，其特征在于，所述的含氢硅油选自端含氢硅油、侧含氢硅油、端侧含氢硅油中的一种或者多种，含氢树脂选自含氢MQ，MDT，MDQ 中的一种或者多种，含氢量为0.005～1.6wt%；所述抑制剂选自炔醇类抑制剂、多乙烯基聚硅氧烷、马来酸酯类抑制剂、苯并三氮唑中的一种；所述甲基苯基硅油的折射率为1.45～1.52，粘度为30～30000mPa.s。

10.根据权利要求1 至权利要求9 中任意一项所述的有机硅助剂的制备方法，其特征在于，该制备方法包括如下步骤：

步骤一：基料的制备：25℃条件下，在捏合机中，依次加入甲基乙烯基聚硅氧烷55.0～85.0 份，甲基苯基硅油3.0～8.0 份，白炭黑8.0～40.0 份，处理剂5.0～8.0 份，充分搅拌捏合后，升温至150℃搅拌4h，抽真空出料即可；

步骤二：组分A 的制备：25℃条件下，分别称取基料20.0～80.0 份，有机硅树脂5.0～10.0 份，交联剂5.0～10.0 份，抑制剂0.05～0.5 份，粘接促进剂1.0～8.0 份，防涂鸦助剂3.0～10.0 份，消光粉5.0～20.0 份，溶剂20.0～80.0 份依次加入到高速搅拌机中，使其混合均匀并充氮气，灌装并密封保存；

步骤三：组分B 的制备：25℃条件下，甲基乙烯基聚硅氧烷1.5～1.95 份，耐磨剂1.0～5.0 份，改性铂金催化剂0.05～0.5 份依次加入到高速搅拌机中，使其混合均匀并充氮气，灌装并密封保存；

步骤四：混合组分A 与组分B：组分A 与组分B 按照质量比为100：(1～5)比例混合均匀后固化，固化条件为130～180℃，5～20min。