[发明专利]一种光学器件和显示装置在审

专利信息
申请号: 202110667727.5 申请日: 2021-06-16
公开(公告)号: CN113376727A 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 杨松 申请(专利权)人: 武汉天马微电子有限公司
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;H01L51/52
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 430205 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光学 器件 显示装置
【权利要求书】:

1.一种光学器件,其特征在于,包括偏振分光结构和偏振调整结构;

所述偏振分光结构包括偏振分光单元,所述偏振分光单元用于将入射光分离得到第一偏振光线和第二偏振光线,所述第一偏振光线和所述第二偏振光线的偏振方向垂直;所述第一偏振光线沿第一方向出射,所述第二偏振光线沿第二方向穿过所述偏振分光单元;

所述偏振调整结构包括第一反射单元、偏振调整单元和第二反射单元,所述第二偏振光线依次经所述第一反射单元、所述偏振调整单元、所述第二反射单元以及所述偏振调整单元后形成偏振调整光线,所述偏振调整光线的偏振方向与所述第一偏振光线的偏振方向相同;所述偏振调整光线经所述偏振分光单元反射后出射。

2.根据权利要求1所述的光学器件,其特征在于,所述偏振分光结构还包括光线调整单元,所述光线调整单元和所述偏振分光单元依次位于所述入射光的传播路径上;

所述光线调整单元用于调整所述入射光以布儒斯特角入射至所述偏振分光单元;

所述偏振分光单元用于分离所述入射光形成所述第一偏振光线和所述第二偏振光线。

3.根据权利要求2所述的光学器件,其特征在于,所述偏振分光单元包括叠层设置的至少两组介质层组,每组所述介质层组包括叠层设置的第一介质层和第二介质层,所述第一介质层和所述第二介质层的折射率不同;

任意两组所述介质层组中,所述第一介质层的折射率相同,所述第二介质层的折射率相同,且所述第二介质层的折射率与所述入射光入射至所述偏振分光单元之前的传播介质的折射率相同。

4.根据权利要求1所述的光学器件,其特征在于,入射至所述第一反射单元的所述第二偏振光线以及经所述第一反射单元反射的所述第二偏振光线的传播方向平行且相反;

经所述第一反射单元反射的所述第二偏振光线经所述偏振分光单元后入射至所述偏振调整单元。

5.根据权利要求4所述的光学器件,其特征在于,所述第二偏振光线垂直入射至所述第一反射单元。

6.根据权利要求1所述的光学器件,其特征在于,所述偏振调整单元包括四分之一波片。

7.根据权利要求1所述的光学器件,其特征在于,所述光学器件还包括环境光过滤结构,所述环境光过滤结构用于过滤至少部分环境光从所述光学器件出射。

8.根据权利要求7所述的光学器件,其特征在于,所述环境光过滤结构包括右旋圆偏光片;

入射至所述光学器件的部分所述环境光经所述偏振调整单元调整后被所述右旋圆偏光片吸收。

9.根据权利要求7所述的光学器件,其特征在于,所述环境光过滤结构包括偏振片和右旋圆偏光片,所述偏振片位于所述光学器件的出光侧,所述偏振片的偏振方向与所述第一偏振光线的偏振方向相同;

所述环境光包括第一环境光和第二环境光,所述第一环境光与所述第二环境光的偏振方向垂直;

所述偏振片用于阻隔与所述偏振片的偏振方向不同的所述第一环境光或者所述第二环境光入射至所述光学器件;

入射至所述光学器件的所述第二环境光或者所述第一环境光经所述偏振调整单元调整后被所述右旋圆偏光片吸收。

10.根据权利要求1所述的光学器件,其特征在于,所述光学器件还包括位于入射光传播路径上的光线准直结构;

所述光线准直结构用于对所述入射光进行准直,所述入射光经所述光线准直结构后入射至所述光线调整结构。

11.根据权利要求1所述的光学器件,其特征在于,所述光学器件的出光面与所述第一偏振光线的传播方向之间的夹角α满足0°α≤90°。

12.根据权利要求1-11任一项所述的光学器件,其特征在于,所述第一反射单元位于所述偏振分光结构的一侧,所述偏振调整单元位于所述偏振分光结构远离所述第一反射单元的一侧,所述第二反射单元位于所述偏振调整单元远离所述偏振分光结构的一侧。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉天马微电子有限公司,未经武汉天马微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110667727.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top