[发明专利]一种三元铜基化合物半导体光电极、无偏压太阳光分解水制氢产氧器件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110668474.3 申请日: 2021-06-16
公开(公告)号: CN113463109B 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 江丰;赵伟东;黄定旺;李艳 申请(专利权)人: 华南师范大学
主分类号: C25B1/04 分类号: C25B1/04;C25B1/55;C25B11/052;C23C18/12
代理公司: 北京清控智云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11919 代理人: 仵乐娟
地址: 510630 广东省广州市天*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 三元 化合物 半导体 电极 偏压 太阳光 分解 水制氢产氧 器件 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种三元铜基化合物半导体光电极,其特征在于,包括:

第一衬底以及依次层叠于第一衬底上的第一背电极、三元铜基吸收层、缓冲层、保护层和析氢催化剂,所述三元铜基吸收层为Cu3BiS3、CuSbS2或Cu2SnS3,所述三元铜基吸收层选用喷雾热解法制备获得,所述喷雾热解法制备中,首先进行前驱体溶液的配制,所述三元铜基吸收层选用Cu3BiS3时,所述前驱体溶液选用包含了1.8~2.2 mol/L CuCl和3.2~3.4 mol/LSC(NH2)2 的第一二甲基亚砜溶液与包含了0.2~0.5 mol/L BiCl3和3.2~3.4 mol/L SC(NH2)2 的第二二甲基亚砜溶液分别搅拌澄清后混合,再搅拌澄清后获得;

所述三元铜基吸收层选用CuSbS2时,所述前驱体溶液选用包含了0.8~1.2 mol/L CuCl和5.8~6.2 mol/L SC(NH2)2 的第一二甲基亚砜溶液与包含了0.8~1.2 mol/LSbCl3和1.8~2.2 mol/L SC(NH2)2 的第二二甲基亚砜溶液,分别搅拌澄清后混合,再搅拌澄清后获得;

所述三元铜基吸收层选用Cu2SnS3时,所述前驱体溶液选用包含了0.8~1.2 mol/L CuCl和2.8~3.2 mol/L SC(NH2)2 的第一二甲基亚砜溶液与包含了0.4~0.6 mol/L SnCl4和1.8~2.2 mol/L SC(NH2)2 的第二二甲基亚砜溶液,分别搅拌澄清后混合,再搅拌澄清后获得;

其次加热所述第一衬底,待所述第一衬底加热至喷涂温度,所述Cu3BiS3的前驱体溶液的喷涂温度为360 ℃~420 ℃;所述CuSbS2的前驱体溶液的喷涂温度为360 ℃~400 ℃;所述Cu2SnS3的前驱体溶液的喷涂温度为380 ℃~420 ℃;设置喷头与第一衬底的距离为23 cm~28 cm,气体压强为4~6×104 Pa,将所述前驱体溶液喷涂至所述第一衬底上,在第一背电极上形成三元铜基吸收层。

2.根据权利要求1的所述三元铜基化合物半导体光电极,其特征在于,其中所述缓冲层选用CdS、In2S3、ZnS或ZnSnO;所述保护层选用TiO2、HfO2或Al2O3;所述析氢催化剂选用Pt或MoS2;所述第一背电极选用Mo、ITO或FTO。

3.根据权利要求1或2的所述三元铜基化合物半导体光电极,其特征在于,所述前驱体溶液的配制中,第一二甲基亚砜溶液与第二二甲基亚砜溶液的体积相同。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华南师范大学,未经华南师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110668474.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top