[发明专利]一种用于磁制冷的铥-镍材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110669250.4 申请日: 2021-06-17
公开(公告)号: CN113373362B 公开(公告)日: 2022-06-28
发明(设计)人: 郑新奇;王守国;邵苏杭;许家旺;杨淑娴;奚磊;张静言 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: C22C28/00 分类号: C22C28/00;B22F3/02;C22F1/16;C22F1/02;C21D1/26;B22F9/04;C21D1/18;C23C10/28;H01F1/01;H01F41/02
代理公司: 北京市隆安律师事务所 11323 代理人: 杨云
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 制冷 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种制备用于磁制冷的铥-镍材料的方法,其特征在于,所述铥-镍材料用于极低温区、低磁场下磁制冷的用途,所述铥-镍材料的化学式为:Tm3+xNi2+y,其中,-0.1≤x≤0.1,-0.1≤y≤0.1,所述铥-镍材料具有菱方晶体结构,所述菱方晶体结构的空间群为R-3,所述菱方晶体结构的晶格参数为a=b=8.50±0.2 Å,c=15.70±0.2 Å,所述铥-镍材料的相变温度在2-6K之间,所述铥-镍材料在0-2T磁场变化下的磁熵变峰值在15-17J/(kg·K)之间;

所述方法包括以下步骤:

步骤S1:按照所述铥-镍材料分子式比例称取粉末状金属Ni原料和过量的Tm原料混合;

其中,所述粉末状金属Ni原料和过量的Tm原料的颗粒度为10-100μm;

步骤S2:将所述步骤S1中混合的原料放入压片机模具中,进行压片处理,得到片状样品;

所述模具的内径尺寸为1mm-2cm,所述片状样品的厚度为1mm-2cm,所述压片机施加的压力为1MPa-30MPa;

步骤S3:将所述步骤S2中的所述片状样品进行真空退火处理;

所述真空退火的温度为800-1200℃,退火的时间为1-5天;

步骤S4:将所述步骤S3中退火后的样品取出,破碎,研磨,重新得到粉末状样品;

步骤S5:重复所述步骤S2至所述步骤S4,再进行最后一次的真空退火;

所述最后一次的真空退火处理时采用温度400-800℃,时间为100-200h;

步骤S6:将所述步骤S5后的样品进行淬火;

所述淬火是将退火处理后的样品淬入液氮或水中,骤然冷却。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述粉末状原料的颗粒度为40-80μm。

3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述模具的内径尺寸为5mm-1.5cm,所述压片机施加的压力为5MPa-20MPa;

所述步骤S2中所述压片处理后静止3-5min,使所述得到片状样品中所述原料充分接触。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤S4中在半封闭钢制研钵中通过挤压敲打进行所述破碎,所述破碎后的样品尺寸为1mm-3mm。

5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述步骤S4中使用玛瑙研钵进行所述研磨,所述研磨之前在所述玛瑙研钵中加入少量石油醚,所述研磨时间5-10min。

6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述重新得到粉末状样品的尺寸为1μm-50μm。

7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤S3中真空退火的温度为900-1100℃,所述退火的时间2-4天;

所述真空退火升温速率为10K/min,所述真空退火后采用自然降温的方式降温。

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