[发明专利]一种微型3D投影装置基片研抛装置及其研抛方法在审
申请号: | 202110669958.X | 申请日: | 2021-06-17 |
公开(公告)号: | CN113334237A | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
发明(设计)人: | 罗远昭 | 申请(专利权)人: | 浙江台佳电子信息科技有限公司 |
主分类号: | B24B31/112 | 分类号: | B24B31/112;B24B41/06;B24B29/02;B24B57/02;B24B41/00;B24B27/02 |
代理公司: | 南京普睿益思知识产权代理事务所(普通合伙) 32475 | 代理人: | 曹花 |
地址: | 318000 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 微型 投影 装置 基片研抛 及其 方法 | ||
1.一种微型3D投影装置基片研抛装置,其特征在于:包括数控台(1)、工作台(2)、一级研抛组件和二级研抛组件;
所述一级研抛组件包括行程组件、驱动组件、固定组件和抛光组件;
所述行程组件包括导轨板(3)、滑块(4)、螺杆(5)和行程电机(6),所述导轨板(3)的数量为两个且相互平行设置地设置在工作台(2)上,所述导轨板(3)上均设有行程槽(7),所述行程槽(7)中均滑接有与之匹配的滑块(4),所述导轨板(3)上均活动安装有沿行程槽(7)方向的螺杆(5),所述滑块(4)上贯穿有与螺杆(5)匹配的螺槽(8),所述螺杆(5)处于导轨板(3)外部的端部均设有驱动其旋转的行程电机(6),所述滑块(4)远离另一滑块(4)的外壁上均设有水平的支撑板(9);
所述驱动组件包括联结杆(10)和旋转电机(11),所述联结杆(10)的两端分别与对应的滑块(4)转动连接,所述旋转电机(11)设置在任意一个支撑板(9)上,并且所述旋转电机(11)的输出轴与联结杆(10)同轴式固定连接;
所述固定组件包括C型臂(12)、负压筒(13)、真空吸盘(14)和负压泵(15),所述联结杆(10)上以等间距线型阵列的方式对称地设有一组C型臂(12),所述C型臂(12)的另一端安装有负压筒(13),所述负压筒(13)的远离联结杆(10)的端部均设有与之导通的真空吸盘(14),所述负压泵(15)设置在另一个支撑板(9)上,所述负压筒(13)尾部均通过导气管(16)与负压泵(15)的进气端连通;
所述抛光组件包括抛光池(17)、磨盘(18)、齿轮(19)、链条(20)和抛光电机(21),所述抛光池(17)在设置工作台(2)上且处于导轨板(3)沿其行程方向的后端,所述抛光池(17)远离联结杆(10)一端的侧壁上贯穿有一组与C型臂(12)一一对应的轴槽,所述轴槽中均转动连接有转轴,所述转轴处于抛光池(17)内部、外部的端部分别安装有磨盘(18)、齿轮(19),所述齿轮(19)之间通过链条(20)传动连接,所述抛光电机(21)的输出轴与与任意一个齿轮(19)同轴式连接,所述抛光池(17)靠近联结杆(10)一端的侧壁上开设有一组与C型臂(12)一一对应的缺口(22);
所述二级研抛组件包括安装座(23)、抛光筒(24)、电磁铁(25)和电源模块(26),所述安装座(23)设置在工作台(2)上,所述安装座(23)内部的开设有与之匹配的空腔(27),所述空腔(27)的顶壁上均匀地设有一组同心圆刻线(28),每一个所述刻线(28)的圆周上均对称地布满有电磁铁(25),所述抛光筒(24)可拆卸式的安装在安装座(23)的顶部,所述电磁铁(25)均通过线缆(29)与电源模块(26)电连接;
所述一级研抛组件和二级研抛组件均由数控台(1)控制。
2.根据权利要求1所述的一种微型3D投影装置基片研抛装置,其特征在于,所述一级研抛组件还配套有与之匹配的辅助组件,所述辅助组件包括喷淋头(30)、输送泵(31)、储液桶(32)和废液桶(33),所述抛光池(17)的池口处设有呈倒U型的支撑架(34),所述支撑架(34)上设有一组与磨盘(18)位置一一对应且输出端朝下的喷淋头(30),所述储液桶(32)与废液桶(33)均设置在靠近工作台(2)的地面上,所述输送泵(31)设置在储液桶(32)上,所述输送泵(31)输入端的水管(49)伸入储液桶(32)内部,所述输送泵(31)输出端的水管(49)与各个喷淋头(30)连通,所述抛光池(17)上设有排液管(35),所述负压泵(15)的输出端设有排气管(36),所述排液管(35)和排气管(36)的另一端均连通到废液桶(33)的内部。
3.根据权利要求2所述的一种微型3D投影装置基片研抛装置,其特征在于,所述储液桶(32)中储存有预先配制的抛光液。
4.根据权利要求2所述的一种微型3D投影装置基片研抛装置,其特征在于,所述储液桶(32)和废液桶(33)的顶部的桶盖上均设有压力平衡管(37)。
5.根据权利要求1所述的一种微型3D投影装置基片研抛装置,其特征在于,所述真空吸盘(14)的作用面均匀的布满有吸附孔(38)。
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