[发明专利]负介电各向异性液晶组合物及液晶显示器件有效

专利信息
申请号: 202110674170.8 申请日: 2021-06-17
公开(公告)号: CN113403088B 公开(公告)日: 2022-12-30
发明(设计)人: 舒克伦;尹硕;李学贵;赖育宏;丰佩川 申请(专利权)人: 烟台显华科技集团股份有限公司
主分类号: C09K19/42 分类号: C09K19/42;G02F1/137
代理公司: 北京诚呈知识产权代理事务所(普通合伙) 11883 代理人: 刘敏
地址: 264006 山东省烟台*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 负介电 各向异性 液晶 组合 液晶显示 器件
【说明书】:

发明涉及负介电各向异性液晶组合物及液晶显示器件。本发明的液晶组合物包含:至少一种式I所示化合物;至少一种式Ⅱ所示化合物。与现有技术相比,本发明的液晶组合物在维持合适的光学各向异性值、介电各向异性的基础上具有降低的G1/K11或G1/K33值从而具有较快的响应时间,并且在采用UV光辐照后具有高的VHR,从而能够获得功耗降低及稳定性提高的显示优势,有利于避免/减少显示器残像现象的发生。

技术领域

本发明涉及液晶材料技术领域。更具体地,涉及液晶组合物及液晶显示器件。

背景技术

随着技术的发展和时代的进步,液晶混合物应用的领域逐步延伸至便携电脑和台式机、导航系统和视频应用的显示器。这些应用领域对液晶混合物的性能要求越来越高。

液晶中分子的空间排列对于液晶显示器具有重要的影响。其中,液晶介质的介电常数ε在相对于平行于电容器方向与垂直于电容器方向上的值不同。将分子纵轴垂直于电容器板取向时的介电常数比平行取向时更大的情况称为介电正性。换句话说,如果平行于分子纵轴的介电常数ε||大于垂直于分子纵轴的介电常数ε,则介电各向异性Δε=ε||大于0。常规显示器中使用的大部分液晶介质为介电正性的介质。与此相对低,Δε=ε||小于0的液晶介质被称为负介电各向异性的液晶介质。

随着技术发展,发现例如在VA-TFT(“垂直配向”)的显示模式中,通过负性采用负介电各向异性的液晶介质,能够获得视角依赖的改善。因而,负介电各向异性的液晶介质得到了广泛的研究,对于这类液晶介质,期望其具有快速响应时间并且残影少。然而,快速响应时间的提升往往导致液晶介质的残影增加,特别是光暴露之后的残影增加,从而影响其稳定性。因此,如何实现具有快速的响应时间并且光暴露后的残影缺陷改善从而稳定性提高的负介电各向异性液晶组合物是本领域亟待解决的问题之一。

发明内容

对于液晶介质,根据显示模式的不同,液晶介质的响应时间与G1/K11或者G1/K33相关。VA(vertical alignment,垂直取向)或者PS-VA(Polymer stabilized verticalalignment,聚合物稳定垂直取向)模式下,液晶介质的响应时间与G1/K33相关,而在FFS(Fringe Field Switching,边缘场开关)、IPS(In-Plane Switching,平面转换)、PS-FFS(Polymer stabilized Fringe Field Switching,聚合物稳定边缘场开关)、PS-IPS(Polymer stabilized In-Plane Switching,聚合物稳定平面转换)等模式下,液晶介质的响应时间与G1/K11相关。

本发明人等通过深入研究后发现,通过采用含有式I所示化合物与式II所示化合物的组合的负介电各向异性液晶组合物,能够在维持合适的光学各向异性值、介电各向异性的基础上获得降低的G1/K11或G1/K33值从而具有快速的响应时间,并且在采用UV光辐照后具有提高的VHR,从而避免/减少显示器残像现象的发生,能够获得功耗降低及稳定性提高的显示优势。

本发明包含下述技术方案。

一方面,本发明提供一种负介电各向异性液晶组合物,其包含:

至少一种式I所示化合物;以及,

至少一种式Ⅱ所示化合物;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于烟台显华科技集团股份有限公司,未经烟台显华科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110674170.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top