[发明专利]具有隔离阴极和公共阳极的垂直腔面发射激光器阵列在审

专利信息
申请号: 202110684581.5 申请日: 2021-06-21
公开(公告)号: CN113904214A 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 赵国为;M·G·彼得斯;杨军;E·R·赫格布洛姆 申请(专利权)人: 朗美通经营有限责任公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/042
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈茜
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 具有 隔离 阴极 公共 阳极 垂直 发射 激光器 阵列
【权利要求书】:

1.一种垂直腔面发射激光器(VCSEL)阵列,包括:

n型衬底层,具有顶部表面和底部表面;

n型金属,在所述n型衬底层的底部表面上,所述n型金属形成用于包括VCSEL阵列的一组VCSEL阵列的公共阳极;

底部镜结构,在n型衬底层的顶部表面上,该底部镜结构包括:

一个或多个底部镜部分,以及

隧道结,以反转底部镜结构内的载流子类型;

有源区,在底部镜结构上;

氧化层,提供VCSEL阵列的VCSEL的光学和电学限制;

n型顶部镜,在有源区上;

顶部接触层,在n型顶部镜上方;和

顶部金属,在顶部接触层上,该顶部金属形成VCSEL阵列的隔离阴极。

2.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,其中所述顶部接触层是n型接触层,并且所述顶部金属是另一n型金属,所述n型接触层在所述n型顶部镜上,并且所述另一n型金属在所述n型接触层上。

3.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,其中所述氧化层在所述有源区下方,并且在所述底部镜结构上或中。

4.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,其中所述氧化层在所述有源区上方,并且在所述n型顶部镜上或中。

5.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,其中所述一个或多个底部镜部分包括n型底部镜部分,

其中n型底部镜部分在n型衬底层的顶部表面上,隧道结在n型底部镜部分上。

6.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,其中所述一个或多个底部镜部分包括p型底部镜部分,

其中p型底部镜部分在隧道结上,有源区在p型底部镜部分上。

7.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,还包括另一隧道结,所述另一隧道结在所述n型顶部镜上,

其中顶部接触层是p型接触层,顶部金属是p型金属,p型接触层在另一隧道结上,p型金属在p型接触层上。

8.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,其中该组VCSEL阵列在同一集成电路上。

9.一种光学设备,包括:

多个垂直腔面发射激光器(VCSEL)阵列,所述多个VCSEL阵列包括:

在n型衬底层的第一表面上的n型金属,该n型金属形成用于多个VCSEL阵列中的每个VCSEL阵列的公共阳极;

在n型衬底层的第二表面上的底部镜结构,该底部镜结构包括:

至少一个底部镜部分,以及

隧道结,以反转底部镜结构内的载流子类型;

在底部镜结构上的有源区;

氧化层,以提供包括在所述多个VCSEL阵列中的VCSEL的光学和电学限制;

在有源区上的n型顶部镜;

在n型顶部镜上方的顶部接触层;和

在顶部接触层上的顶部金属,该顶部金属形成用于所述多个VCSEL阵列中每个VCSEL阵列的隔离阴极。

10.根据权利要求9所述的光学设备,其中所述顶部接触层是n型接触层,并且所述顶部金属是另一n型金属,所述n型接触层在所述n型顶部镜上,并且所述另一n型金属在所述n型接触层上。

11.根据权利要求9所述的光学设备,其中所述氧化层在所述有源区下方,并且在所述底部镜结构上或中。

12.根据权利要求9所述的光学设备,其中所述氧化层在所述有源区上方,并且在所述n型顶部镜上或中。

13.根据权利要求9所述的光学设备,其中所述至少一个底部镜部分包括n型底部镜部分,

其中n型底部镜部分在n型衬底层的第二表面上,隧道结在n型底部镜部分上。

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