[发明专利]具有隔离阴极和公共阳极的垂直腔面发射激光器阵列在审
申请号: | 202110684581.5 | 申请日: | 2021-06-21 |
公开(公告)号: | CN113904214A | 公开(公告)日: | 2022-01-07 |
发明(设计)人: | 赵国为;M·G·彼得斯;杨军;E·R·赫格布洛姆 | 申请(专利权)人: | 朗美通经营有限责任公司 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183;H01S5/042 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 陈茜 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 隔离 阴极 公共 阳极 垂直 发射 激光器 阵列 | ||
1.一种垂直腔面发射激光器(VCSEL)阵列,包括:
n型衬底层,具有顶部表面和底部表面;
n型金属,在所述n型衬底层的底部表面上,所述n型金属形成用于包括VCSEL阵列的一组VCSEL阵列的公共阳极;
底部镜结构,在n型衬底层的顶部表面上,该底部镜结构包括:
一个或多个底部镜部分,以及
隧道结,以反转底部镜结构内的载流子类型;
有源区,在底部镜结构上;
氧化层,提供VCSEL阵列的VCSEL的光学和电学限制;
n型顶部镜,在有源区上;
顶部接触层,在n型顶部镜上方;和
顶部金属,在顶部接触层上,该顶部金属形成VCSEL阵列的隔离阴极。
2.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,其中所述顶部接触层是n型接触层,并且所述顶部金属是另一n型金属,所述n型接触层在所述n型顶部镜上,并且所述另一n型金属在所述n型接触层上。
3.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,其中所述氧化层在所述有源区下方,并且在所述底部镜结构上或中。
4.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,其中所述氧化层在所述有源区上方,并且在所述n型顶部镜上或中。
5.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,其中所述一个或多个底部镜部分包括n型底部镜部分,
其中n型底部镜部分在n型衬底层的顶部表面上,隧道结在n型底部镜部分上。
6.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,其中所述一个或多个底部镜部分包括p型底部镜部分,
其中p型底部镜部分在隧道结上,有源区在p型底部镜部分上。
7.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,还包括另一隧道结,所述另一隧道结在所述n型顶部镜上,
其中顶部接触层是p型接触层,顶部金属是p型金属,p型接触层在另一隧道结上,p型金属在p型接触层上。
8.根据权利要求1所述的VCSEL阵列,其中该组VCSEL阵列在同一集成电路上。
9.一种光学设备,包括:
多个垂直腔面发射激光器(VCSEL)阵列,所述多个VCSEL阵列包括:
在n型衬底层的第一表面上的n型金属,该n型金属形成用于多个VCSEL阵列中的每个VCSEL阵列的公共阳极;
在n型衬底层的第二表面上的底部镜结构,该底部镜结构包括:
至少一个底部镜部分,以及
隧道结,以反转底部镜结构内的载流子类型;
在底部镜结构上的有源区;
氧化层,以提供包括在所述多个VCSEL阵列中的VCSEL的光学和电学限制;
在有源区上的n型顶部镜;
在n型顶部镜上方的顶部接触层;和
在顶部接触层上的顶部金属,该顶部金属形成用于所述多个VCSEL阵列中每个VCSEL阵列的隔离阴极。
10.根据权利要求9所述的光学设备,其中所述顶部接触层是n型接触层,并且所述顶部金属是另一n型金属,所述n型接触层在所述n型顶部镜上,并且所述另一n型金属在所述n型接触层上。
11.根据权利要求9所述的光学设备,其中所述氧化层在所述有源区下方,并且在所述底部镜结构上或中。
12.根据权利要求9所述的光学设备,其中所述氧化层在所述有源区上方,并且在所述n型顶部镜上或中。
13.根据权利要求9所述的光学设备,其中所述至少一个底部镜部分包括n型底部镜部分,
其中n型底部镜部分在n型衬底层的第二表面上,隧道结在n型底部镜部分上。
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