[发明专利]用于放射性物质处理的反应系统

权利要求书

1.一种用于放射性物质处理的反应系统，包括：

反应容器(10)，所述反应容器(10)用于为所述放射性物质的处理提供反应空间；

加热装置(20)，所述加热装置(20)设置在所述反应容器(10)外侧，用于在所述放射性物质的处理过程中加热所述放射性物质；

通光孔(30)，所述通光孔(30)设置成贯穿所述反应容器(10)的一个壁；以及

测温装置(40)，所述测温装置(40)设置在所述反应容器(10)外部并与所述通光孔(30)连接，所述测温装置(40)用于在所述放射性物质的处理过程中通过所述通光孔(30)获取所述放射性物质辐射的可见光，并根据所述可见光获取所述放射性物质的温度；其中，所述通光孔(30)设置在所述反应容器(10)的顶壁(11)，所述通光孔(30)设置在靠近所述顶壁(11)边缘的位置，并且，所述通光孔(30)设置成斜向贯穿所述顶壁(11)，倾斜的角度使所述通光孔(30)的中轴线与所述反应容器(10)的中轴线相交；

还包括：

镜片(50)，所述镜片(50)用于封闭所述通光孔(30)靠近所述反应容器(10)内部的一端，以保护所述测温装置(40)；

驱动件(71)和擦拭件(72)，

所述擦拭件(72)设置在所述反应容器(10)内；

所述驱动件(71)用于驱动所述擦拭件(72)在第一位置和第二位置之间转动以擦拭所述镜片(50)，其中，所述擦拭件(72)在所述第一位置时完全覆盖所述镜片(50)，所述擦拭件(72)在所述第二位置时使所述镜片(50)完全暴露；

驱动件(71)和擦拭件(72)，

所述擦拭件(72)设置在所述反应容器(10)内；

所述驱动件(71)用于驱动所述擦拭件(72)在第一位置和第二位置之间转动以擦拭所述镜片(50)，其中，所述擦拭件(72)在所述第一位置时完全覆盖所述镜片(50)，所述擦拭件(72)在所述第二位置时使所述镜片(50)完全暴露；

所述测温装置(40)包括：

导光部(41)、光电传感器(42)和处理器(43)；

所述导光部(41)用于通过所述通光孔(30)获取所述放射性物质辐射的可见光，并将可见光传输到所述光电转换器(42)；

所述光电传感器(42)用于将接收到的可见光转换为电信号；

所述处理器(43)用于根据所述电信号获取所述放射性物质的温度；

分光件(44)，所述分光件(44)设置在所述导光部(41)中，用于对所述放射性物质辐射的可见光进行色散，使所述光电传感器(42)接收到的可见光被分为多个色区。

2.根据权利要求1所述的反应系统，其中，所述镜片(50)为平面透镜。

3.根据权利要求1或2所述的反应系统，还包括：

吹扫装置(60)，所述吹扫装置(60)设置在所述反应容器(10)内，用于对所述镜片(50)进行吹扫以保持所述镜片(50)的清洁。

4.根据权利要求1所述的反应系统，其中，所述驱动件(71)包括：

电机(711)和驱动轴(712)，

所述驱动轴(712)设置成贯穿所述反应容器(10)的顶壁(11)；

所述电机(711)设置在所述反应容器(10)外，并设置成与所述驱动轴(712)可操作地连接，以通过所述驱动轴(712)驱动所述擦拭件(72)转动。

5.根据权利要求1所述的反应系统，其中，所述处理器(43)具体用于：

接收所述光电传感器(42)输出的电信号；

根据所述电信号获取一个或多个波长的可见光的辐射量；

根据所述一个或多个波长的可见光的辐射量获取所述放射性物质的温度。

6.根据权利要求5所述的反应系统，其中，根据所述电信号获取多个波长的可见光的辐射量时，所述多个波长的可见光来自同一色区。

7.根据权利要求1所述的反应系统，其中，所述光电传感器(42)为CMOS传感器或CCD传感器。