[发明专利]一种利用离散晶核提高脱模剂涂覆均匀性的方法

权利要求书

1.一种利用离散晶核提高脱模剂涂覆均匀性的方法，其特征在于包括以下步骤：

1)配制脱模剂溶液：在烧杯中加入去离子水，将重铬酸钾粉末加入烧杯中，搅拌；

2)配置电镀液：将硫酸铬、氯化铵、硼酸、甘氨酸药品加入电沉积槽中，然后向槽中加入去离子水，搅拌；

3)电沉积Cr离散晶核：将铜片固定在阴极板上接入电源负极，以钛篮为阳极接入电源正极，调节电流大小，调节加热温度，进行电沉积得Cr金属的离散晶核，根据极化曲线计算芯模表面的晶核密度。

2.如权利要求1所述一种利用离散晶核提高脱模剂涂覆均匀性的方法，其特征在于在步骤1)中，所述去离子水的温度可为20～25℃。

3.如权利要求1所述一种利用离散晶核提高脱模剂涂覆均匀性的方法，其特征在于在步骤1)中，所述重铬酸钾的加入量按质量百分比可为水的为5％～10％；所述重铬酸钾的质量-体积浓度可为50g/L～100g/L。

4.如权利要求1所述一种利用离散晶核提高脱模剂涂覆均匀性的方法，其特征在于在步骤1)中，所得脱模剂溶液在20～25℃条件下静置1h。

5.如权利要求1所述一种利用离散晶核提高脱模剂涂覆均匀性的方法，其特征在于在步骤2)中，所述硫酸铬的质量-体积浓度可为20g/L～40g/L，氯化铵的质量-体积浓度可为200g/L～400g/L，硼酸的质量-体积浓度可为60g/L～100g/L，甘氨酸的质量-体积浓度可为20g/L～50g/L。

6.如权利要求1所述一种利用离散晶核提高脱模剂涂覆均匀性的方法，其特征在于在步骤2)中，所述去离子水的温度为20～25℃；所得电镀液pH为3.0～3.5。

7.如权利要求1所述一种利用离散晶核提高脱模剂涂覆均匀性的方法，其特征在于在步骤2)中，所得电镀液在20～25℃条件下静置8～15h。

8.如权利要求1所述一种利用离散晶核提高脱模剂涂覆均匀性的方法，其特征在于在步骤3)中，所述电流密度为5～10A/dm²；所述电沉积的时间为5～15s。

9.如权利要求1所述一种利用离散晶核提高脱模剂涂覆均匀性的方法，其特征在于在步骤3)中，所述加热温度为40～50℃。

10.如权利要求9所述一种利用离散晶核提高脱模剂涂覆均匀性的方法，其特征在于所述加热温度为43℃。