[发明专利]显示面板、制备显示面板的方法以及显示装置在审
申请号: | 202110691627.6 | 申请日: | 2021-06-22 |
公开(公告)号: | CN113421889A | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 王明 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32;H01L23/544 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 赵丽婷 |
地址: | 230012 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 制备 方法 以及 显示装置 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
基板,所述基板的一侧具有背板电路结构;
对位标记,所述对位标记位于所述基板上具有所述背板电路结构的一侧并位于所述基板的边缘处,所述对位标记远离所述基板的一侧具有保护层。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述背板电路结构包括:
遮光金属层,所述遮光金属层位于所述基板的一侧;
有源层,所述有源层位于所述遮光金属层远离所述基板的一侧;
栅绝缘层,所述栅绝缘层位于所述有源层远离所述遮光金属层的一侧;
栅极,所述栅极位于所述栅绝缘层远离所述有源层的一侧;
层间介质层,所述层间介质层位于所述栅绝缘层远离所述基板的一侧并覆盖所述栅极的表面;
源极和漏极,所述源极和漏极位于所述层间介质层远离所述基板的一侧,并通过过孔与所述有源层相连;
平坦化层,所述平坦化层位于所述源极和漏极远离所述基板的一侧;
所述对位标记和所述遮光金属层同层同材料设置。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述背板电路结构包括:
栅极以及栅绝缘层,所述栅极位于所述基板的一侧,所述栅绝缘层位于所述栅极远离所述基板的一侧;
有源层,所述有源层位于所述栅绝缘层远离所述基板的一侧;
层间介质层,所述层间介质层位于所述有源层远离所述栅绝缘层的一侧并覆盖所述有源层;
源极和漏极,所述源极和漏极位于所述层间介质层远离所述基板的一侧,并通过过孔与所述有源层相连;
平坦化层,所述平坦化层位于所述源极和漏极远离所述基板的一侧;
所述对位标记和所述栅极同层同材料设置。
4.根据权利要求1-3任一项所述的显示面板,其特征在于,所述保护层在所述基板上的正投影覆盖所述对位标记在所述基板上的正投影。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,形成所述保护层的材料包括透明导电氧化物、金和银中的至少一种。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述对位标记靠近所述背板电路结构一侧的边缘,和所述基板的边缘之间的距离不大于10mm。
7.一种制备权利要求1-6所述的显示面板的方法,其特征在于,包括:
在所述基板上形成所述背板电路结构以及所述对位标记,所述对位标记位于所述基板上具有所述背板电路结构的一侧并位于所述基板的边缘处,
并在所述对位标记远离所述基板的一侧形成保护层。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,包括:
在所述基板上沉积遮光金属材料,并在所述遮光金属材料远离所述基板的一侧沉积保护层材料;
刻蚀所述保护层材料以形成所述保护层;
刻蚀所述遮光金属材料,以基于所述遮光金属材料形成所述对位标记以及遮光金属层,并使所述保护层在所述基板的正投影覆盖所述对位标记在所述基板的正投影。
9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,包括:
在所述基板上沉积栅金属材料,并在所述栅金属材料远离所述基板的一侧沉积保护层材料;
刻蚀所述保护层材料以形成所述保护层;
刻蚀所述栅金属材料,以基于所述栅金属材料形成所述对位标记以及栅极,并使所述保护层在在所述基板的正投影覆盖所述对位标记在所述基板的正投影。
10.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1-6任一项所述的显示面板。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的