[发明专利]一种含氟光敏聚合物及其图案化光固化涂层的制备方法和应用

权利要求书

1.一种含氟光敏聚合物，其特征在于，包括式(1)，(2)，(3)，(4)所示重复结构单元：

其中：R₁、R₂、R₃、R₄和M分别独立地选自氢、卤素、烷基、烷氧基、硝基、氨基、羟基、羧基、腈基、磺酸基、酯基、环烷基、苯基、萘基或杂环式基的1价有机基团；A表示氟原子或者完全取代的碳原子数为1-30的烷基或烷氧基链，B表示共引发剂胺分子残基，D表示可光二聚分子残基，0X≤100，0Y≤100，0Z≤100，0≤W≤100，3≤X+Y+Z+W400；

所述共引发剂分子残基B具有式(7)所示结构：

其中，R₇和R₈独立地选自氢、烷基、烷氧基、羟基、羧基、酯基、环烷基、苯基、萘基或杂环式基；

所述可光二聚分子残基D选自式(8)所列结构的一种：

其中，X表示S、O或N，且R₉、R₁₀、R₁₁、R₁₂、R₁₃、R₁₄、R₁₅、R₁₆、R₁₇各自独立的表示氢、C₁-C₁₀直链或支链烷基、C₁-C₁₀烷氧基、羟基、羧基、C₃-C₁₀环烷基、C₆-C₁₄芳基、C₆-C₁₄烷芳基、C₆-C₁₄芳烷基苯基、杂环，及其衍生物或其组合，并且其中当X表示O时，R₁₁不存在；

所述L₁为或不存在，所述L₂或L₃具有如式(5)所示结构：

其中：R₅为烷基、烷氧基、氨基、酯基、环烷基、苯基、萘基或杂环式基的2价有机基团或者组合；

所述L₂选自式(5)所示结构，或者式(6)所示结构：

其中：R₆为烷基、烷氧基、氨基、酯基、环烷基、苯基、萘基或杂环式基的2价有机基团或者组合。

2.根据权利要求1所述含氟光敏聚合物，其特征在于，所述R₁、R₂、R₃、R₄和M分别独立地选自氢、卤素、C₁～C₂₀直链或支链烷基、C₁～C₂₀烷氧基、C₁～C₂₀酯基、羧基或腈基中任一种；所述R₅为C₁～C₂₀烷基、C₁～C₂₀烷氧基、C₂～C₂₀酯基的2价基团或其组合；所述R₆为C₁～C₂₀直链或支链烷基、C₁～C₂₀烷氧基、苯基的2价基团或者上述基团的组合。

3.根据权利要求1所述含氟光敏聚合物，其特征在于，所述R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇、R₈的杂环式基选自呋喃基、噻嗯基、咪唑基、噁唑基或吡啶基或这些芳香族环的氢原子被任意取代基取代的产物。