[发明专利]阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法在审
申请号: | 202110694634.1 | 申请日: | 2021-06-22 |
公开(公告)号: | CN113419387A | 公开(公告)日: | 2021-09-21 |
发明(设计)人: | 薛兴皓;郑浩旋 | 申请(专利权)人: | 惠科股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1362 | 分类号: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1333;G02F1/1335 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 郭鸿 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列 显示 面板 显示装置 制备 方法 | ||
本申请适用于显示装置技术领域,提供了一种阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法,所述显示面板包括:第一基板,第一基板的第一侧面向彩膜基板,彩膜基板设置有多个色阻块,第一侧面对应各色阻块分别设置有色阻对应区,阵列基板还包括设置于第一侧面的第一透明填充结构,第一透明填充结构设置于至少一种颜色的色阻块对应的色阻对应区,与色阻对应区对应的色阻块的颜色相同的光的波长为λ,第一侧面与色阻块之间的距离为d,d随λ的增大而增大,第一透明填充结构的厚度为h3,色阻块的厚度为h1,且满足h1+h3+d=L,不同颜色的色阻块的L值相等。所述阵列基板可在不改变开口率和NTSC的同时提高透过率。
技术领域
本申请涉及显示装置技术领域,更具体地说,是涉及一种阵列基板、显示面板、显示装置及阵列基板的制备方法。
背景技术
目前,在显示装置中,薄膜集体管液晶显示器(Thin film transistor liquidcrystal display,常简称为TFT-LCD)为较为常见的显示器类型,平面转换模式液晶显示器(In-Plane Switching liquid crystal display,简称IPS-LCD)属于TFT-LCD的一种。IPS-LCD采用水平转换技术,在处理连续性的动态画面时,水平转换的一大优势是加快了液晶分子的偏转速度。体现在IPS硬屏其响应速度快的优势,使图像的运动轨迹更加细腻清晰。
由于IPS-LCD存在穿透率较低的问题,因此需要搭配高亮度的背光以达到客户的规格,这就提高了功耗。为解决上述问题,现有技术中通常采用的方式为减少彩膜中色阻块的膜厚或增大开口率。但是减少膜厚会使得NTSC(National Television StandardsCommittee,国家电视标准委员会)色域降低,而增大开口率需要减少黑矩阵的线宽,若黑矩阵(Black Matrix,简称BM)的线宽较小,则为生产制造带来了困难,使得现有技术中的生产制造水平难以实现。
综上,IPS-LCD仍然存在穿透率较低的问题。
发明内容
本申请实施例的目的在于提供一种阵列基板,旨在解决现有技术中TFT-LCD的穿透率较低的技术问题。
为实现上述目的,本申请采用的技术方案是:提供一种阵列基板包括:第一基板,所述第一基板的第一侧面面向彩膜基板,所述彩膜基板设置有多个色阻块,所述第一侧面对应各所述色阻块分别设置有色阻对应区,所述阵列基板还包括设置于所述第一侧面的第一透明填充结构,所述第一透明填充结构设置于至少一种颜色的色阻块对应的所述色阻对应区,与所述色阻对应区对应的所述色阻块的颜色相同的光的波长为λ,所述阵列基板与所述色阻块之间的距离为d,d随λ的增大而增大,所述第一透明填充结构的厚度为h3,所述色阻块的厚度为h1,且满足h1+h3+d=L,h1>0,h3≥0,不同颜色的所述色阻块的L值相等。
进一步地,所述d的取值根据公式Δnd=λ/2得出,Δn是液晶折射率参数。
进一步地,除了与所述λ的数值最大的一种颜色的所述色阻块对应的色阻对应区外,与其他颜色的所述色阻块相对的色阻对应区均对应设置有所述第一透明填充结构。
进一步地,所述第一透明填充结构为透明层,所述透明层设置有通孔和凹槽;所述透明层的通孔与所述λ的数值最大的一种颜色的所述色阻块对应的色阻对应区相对,所述透明层的凹槽与除所述λ的数值最小和所述λ的数值最大的两种颜色之外的其他种颜色的所述色阻块对应的色阻对应区相对。
进一步地,所述色阻对应区包括与红色色阻块对应的红色对应区、与绿色色阻块对应的绿色对应区、以及与蓝色色阻块对应的蓝色对应区,所述透明层的通孔与所述红色对应区相对设置,所述凹槽与所述绿色对应区相对设置。
进一步地,所述第一透明填充结构包括凸块,所述凸块在第一侧面上的投影完全覆盖与其对应的所述色阻块。
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