[发明专利]一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物的合成方法，其特征在于：将低共熔溶剂I和低共熔溶剂II以及模板分子加入至羟基磷灰石溶液中，先进行自组装反应，再加入过硫酸铵溶液和四甲基乙二胺进行聚合反应，聚合反应产物经过洗脱模板分子，即得；

所述低共熔溶剂I由2-甲基丙烯酸羟乙酯和四丁基氯化铵按摩尔比(1～5):1，或咖啡酸、氯化胆碱和甲酸按照摩尔比1:(1～7):(1～8)，或四丁基氯化铵和乙二醇按照摩尔比1：(1～4)，或氯化胆碱、3,4-二羟基苯甲酸和乙二醇按照摩尔比1:1:(1～3)，或氯化胆碱和丙烯酸按照摩尔比1:(1～3)，或(3-丙烯酰胺丙基)三甲基氯化铵和尿素按照摩尔比1:(1～3)，或α-甲基丙烯酸和苄基三乙基氯化铵按照摩尔比(1～5):1反应得到；

所述低共熔溶剂II由(3-丙烯酰胺丙基)三甲基氯化铵和丙烯酰胺按摩尔比1:(1～6)反应得到；

低共熔溶剂I和低共熔溶剂II以及模板分子的用量比例为：200μL：30～100μL：0.10～0.30mmol；

所述模板分子为芥子酸。

2.根据权利要求1所述的一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物的合成方法，其特征在于：低共熔溶剂I、羟基磷灰石溶液、过硫酸铵溶液和四甲基乙二胺的用量比为：200μL：(30～80mL)：(100～300μL)：(100～300μL)；

所述羟基磷灰石溶液为浓度在4～8mg/mL范围内的PBS缓冲溶液；

所述过硫酸铵溶液的w/v浓度为5～15％。

3.根据权利要求1所述的一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物的合成方法，其特征在于：所述自组装反应的条件为：在室温下反应1～3小时。

4.根据权利要求1所述的一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物的合成方法，其特征在于：所述聚合反应的条件为：在室温下反应18～30小时。

5.一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物，其特征在于：由权利要求1～4任一项所述合成方法得到。

6.权利要求5所述的一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物的应用，其特征在于：应用于吸附和分离与模板分子相同的目标物质。