[发明专利]减少衬底处理系统再循环的轴环、锥形喷头和/或顶板在审

专利信息
申请号: 202110696983.7 申请日: 2017-06-29
公开(公告)号: CN113658844A 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 理查德·菲利普斯;瑞安·布拉基埃;尚卡·斯瓦米纳森 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32;C23C16/44;C23C16/455
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 樊英如;邱晓敏
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 减少 衬底 处理 系统 再循环 锥形 喷头 顶板
【权利要求书】:

1.一种衬底处理系统中的处理室,该处理室包括:

上表面、侧壁和下表面;

喷头,所述喷头连接至所述处理室的所述上表面并从所述上表面向下延伸,其中所述喷头包括杆部和基部;以及

倒锥形表面,所述倒锥形表面被布置成邻近所述处理室的所述上表面和所述侧壁,其中所述倒锥形表面包括成角度的表面,该角度的表面被布置成将所述喷头上方的气流(i)从水平方向重定向到向下方向以及(ii)将所述喷头上方的气流重定向使得其进入所述基部的径向外部和所述处理室的所述侧壁之间的间隙中。

2.根据权利要求1所述的处理室,其中所述基部限定充气室并且所述杆部限定与所述充气室流体连通的气体通道。

3.根据权利要求1所述的处理室,其中所述喷头包括被布置成将气体分散到所述处理室中的面板。

4.根据权利要求1所述的处理室,还包括将所述喷头连接到所述处理室的所述上表面的轴环,其中所述轴环在所述轴环的径向内表面和所述喷头的杆部之间限定气体通道,并且其中所述轴环包括一个或多个缝隙,所述缝隙被布置成将来自所述气体通道的吹扫气体引导至所述喷头上方的区域。

5.根据权利要求4所述的处理室,其中,随着距所述处理室的上表面的垂直距离增加,所述径向内表面具有增加的直径。

6.根据权利要求4所述的处理室,其中,所述一个或多个缝隙在水平方向上引导吹扫气体。

7.根据权利要求5所述的处理室,其中所述成角度的表面相对于所述水平方向以锐角布置。

8.根据权利要求7所述的处理室,其中,所述成角度的表面相对于水平方向以30至60度之间的角度布置。

9.根据权利要求7所述的处理室,其中所述成角度的表面相对于所述水平方向以40至50度之间的角度布置。

10.根据权利要求4所述的处理室,其中所述倒锥形表面的径向内边缘与所述轴环间隔开。

11.根据权利要求4所述的处理室,还包括间隔件,其被布置为保持所述轴环相对于所述喷头的杆部的位置。

12.根据权利要求11所述的处理室,其中所述间隔件包括布置在所述喷头的基部上并围绕所述喷头的杆部的环形基部。

13.根据权利要求12所述的处理室,其中,所述间隔件包括从所述环形基部向上突出的两个或更多个臂,其中所述两个或更多个臂的上端在向上和向外的方向上使所述轴环偏置。

14.根据权利要求1所述的处理室,还包括将所述倒锥形表面连接到所述处理室的上表面的紧固件。

15.根据权利要求1所述的处理室,还包括锥形表面,该锥形表面布置在所述喷头的所述基部附近并且围绕所述喷头的所述杆部,其中所述锥形表面和所述倒锥形表面限定了从所述喷头的所述杆部径向向外延伸的成角度的气体通道。

16.一种用于衬底处理系统中的处理室的喷头组件,该喷头组件包括:

喷头,其被配置为连接至所述处理室的上表面并从该上表面向下延伸,其中所述喷头包括杆部和基部;

锥形表面,其被布置成邻近所述基部并围绕所述喷头的所述杆部;和

倒锥形表面,其被配置为邻近所述处理室的上表面和侧壁布置,其中所述锥形表面和所述倒锥形表面限定从所述喷头的杆部径向向外和向下延伸的成角度的气体通道。

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