[发明专利]一种Fe-Ni-P合金电镀液、Fe-Ni-P合金镀层的电沉积方法及合金镀层在审
申请号: | 202110698679.6 | 申请日: | 2021-06-23 |
公开(公告)号: | CN113737233A | 公开(公告)日: | 2021-12-03 |
发明(设计)人: | 高丽茵;刘志权;孙蓉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院深圳先进技术研究院 |
主分类号: | C25D3/56 | 分类号: | C25D3/56;C25D7/12;H05K1/11;H05K3/18 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 黎坚怡 |
地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 fe ni 合金 电镀 镀层 沉积 方法 | ||
本申请公开了一种Fe‑Ni‑P合金电镀液、Fe‑Ni‑P合金镀层的电沉积方法及合金镀层,属于电子制造技术领域。该电镀液包括主盐、络合剂以及水,络合剂包括双络合剂,双络合剂包括柠檬酸和氨三乙酸,或柠檬酸和氨三乙酸盐,或柠檬酸盐和氨三乙酸,或柠檬酸盐和氨三乙酸盐;双络合剂中,氨三乙酸或氨三乙酸盐的浓度与柠檬酸或柠檬酸盐的浓度之比为0.5~5;其中,柠檬酸或柠檬酸盐的浓度为0.01~0.5mol/L,氨三乙酸或氨三乙酸盐的浓度为0.01~0.5mol/L。本申请通过在电镀液中加入柠檬酸(盐)和氨三乙酸(盐)作为双络合剂,能够增加镀液的电化学极化程度,使制备的Fe‑Ni‑P合金镀层的矫顽力较低,镀层表面光亮、组织细致,可应用于微电子领域以及半导体功能器件等领域。
技术领域
本申请涉及电子制造技术领域,特别是涉及一种Fe-Ni-P合金电镀液、Fe-Ni-P合金镀层的电沉积方法及合金镀层。
背景技术
电感是最基本的电子元器件之一,由其构成的功率电感器、扼流器、滤波器等是电子电路必不可少的重要元件。若能通过电感将分立的无源元件实现集成,最终产品的尺寸缩小幅度将是现在通常预计的几十倍乃至上百倍。电感应用需要较高的饱和磁感应强度以提高其电流处理能力、高的电阻率以减少涡流损耗以及低的矫顽力以减少磁滞损耗。
Fe(铁)、Co(钴)、Ni(镍)原子磁矩分别为2.2μB、1.7μB、0.6μB,在含铁量较高的成分范围内,Fe-Co、Fe-Ni合金的原子磁矩与纯铁接近。由于Fe、Co、Ni的3d电子的波函数存在相互交叠的现象,通过直接交换作用能够使其金属及合金表现为铁磁性,且合金化后的磁导率比纯金属的磁导率高,因而软磁合金大体是以过渡金属Fe、Co、Ni的一种或两种为基的。
目前已有的Fe-Ni、Fe-Co二元及多元合金软磁材料可以以电沉积方式获得,成本低且制备效率高,但是其电阻率较低,为进一步增加Fe-Ni合金的电阻率,通常掺杂非金属元素P。现有技术中,化学镀Fe-Ni-P的配方有分别以醋酸(盐)、柠檬酸(盐)、甘氨酸等为络合剂的体系。然而,大多Fe-Ni-P合金由于共沉积电位较负,上述络合剂无法有效调节各金属离子的析出电位,导致镀液极化程度不够,析氢反应剧烈,最终获得的Fe-Ni-P镀层往往矫顽力较大,Fe-Ni-P镀层表面较为粗糙且应力较大。
发明内容
本申请主要解决的技术问题是提供一种Fe-Ni-P合金电镀液、Fe-Ni-P合金镀层的电沉积方法及合金镀层,通过在电镀液中加入柠檬酸(盐)和氨三乙酸(盐)作为双络合剂,能够解决Fe-Ni-P镀层矫顽力较大的问题。
为解决上述技术问题,本申请采用的第一技术方案是提供一种Fe-Ni-P合金电镀液,包括主盐、络合剂以及水,络合剂包括双络合剂,双络合剂包括柠檬酸和氨三乙酸,或柠檬酸和氨三乙酸盐,或柠檬酸盐和氨三乙酸,或柠檬酸盐和氨三乙酸盐;双络合剂中,氨三乙酸或氨三乙酸盐的浓度与柠檬酸或柠檬酸盐的浓度之比为0.5~5;其中,柠檬酸或柠檬酸盐的浓度为0.01~0.5mol/L,氨三乙酸或氨三乙酸盐的浓度为0.01~0.5mol/L。
其中,电镀液还包括稀土元素;其中,稀土元素包括稀土盐或稀土氧化物,稀土盐或稀土氧化物的浓度为0.25~0.4g/L;稀土元素为La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd和Tb中的一种或两种。
其中,主盐包括亚铁盐、镍盐以及次亚磷酸盐;其中,亚铁盐的浓度为0.01~0.5mol/L,镍盐的浓度为0.01~0.5mol/L,次亚磷酸盐的浓度为0.01~0.3mol/L。
其中,亚铁盐包括FeSO4和/或FeCl2,镍盐包括NiSO4、Ni(NH2SO3)2以及NiCl2中的一种或两种,次亚磷酸盐包括NaH2PO2。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院深圳先进技术研究院,未经中国科学院深圳先进技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202110698679.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。