[发明专利]一种碲化镉喷涂设备及系统

权利要求书

1.一种碲化镉喷涂设备，用于对电池芯片喷涂碲化镉，其特征在于，包括二流体喷涂机构、沿电池芯片的运动方向设置的第一腔室和第二腔室；

所述二流体喷涂机构设置于第二腔室内；

所述第一腔室通过第一感应门与第二腔室连通；所述第一腔室远离第二腔室的一端通过第二感应门与外部空间连通，所述第二腔室远离第一腔室的一端通过第三感应门与外部空间连通；

其中，所述二流体喷涂机构包括：

至少一个喷头组件；以及

横杆，所述横杆的两端分别与外部机床连接；

其中，任意一个喷头组件包括：

支撑件；以及

喷头，所述喷头与支撑件转动连接；

任意一个支撑件通过腰型孔与横杆滑动连接。

2.如权利要求1所述的一种碲化镉喷涂设备，其特征在于，还包括排气设备；所述排气设备包括延伸至第一腔室和第二腔室内的排气管道，用于分别排出第一腔室和第二腔室内的有害气体。

3.如权利要求1所述的一种碲化镉喷涂设备，其特征在于，所述横杆设有沟槽；所述沟槽内设有若干与支撑件对应设置的滑块。

4.如权利要求1所述的一种碲化镉喷涂设备，其特征在于，还包括升降机构；所述横杆的两端分别通过升降机构与外部机床连接。

5.如权利要求1～4任一项所述的一种碲化镉喷涂设备，其特征在于，任意一个喷头设有进气口和进液口；所述进气口具有调压阀；所述进液口具有流量阀。

6.一种碲化镉喷涂系统，其特征在于，包括如权利要求1～5任一项所述的碲化镉喷涂设备。

7.如权利要求6所述的一种碲化镉喷涂系统，其特征在于，还包括：

配液槽；

储存槽，所述储存槽与配液槽连通；

废液池；以及

压缩气供给设备；

其中，所述压缩气供给设备与喷头连通，所述储存槽通过过滤器与喷头连通；所述储存槽与废液池连通。

8.如权利要求7所述的一种碲化镉喷涂系统，其特征在于，还包括漏液槽，所述漏液槽设置于二流体喷涂机构的下方；所述漏液槽与废液池连通。