[发明专利]主链可降解型光刻胶树脂单体及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种主链可降解型光刻胶树脂单体，其特征在于，所述主链可降解型光刻胶树脂单体的具体选自以下结构之一：

2.一种根据权利要求1所述的主链可降解型光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，所述主链可降解型光刻胶树脂单体的结构通式为通式Ⅰ-a，合成方法为：

其中，R₁-R₃为权利要求1中化合物结构所定义；

S1：初始原料Ⅰ-a-1与丙烯酰氯或甲基丙烯酰氯在碱的作用下在第一反应溶剂中发生酯化反应生成中间体Ⅰ-a-2；

S2：中间体Ⅰ-a-2和乙醇醛二聚体在催化剂作用下，在第二反应溶剂中发生酯化反应生成主链可降解型光刻胶树脂单体Ⅰ-a。

3.根据权利要求2所述的主链可降解型光刻胶树脂单体制备方法，其特征在于，S1中，还包括如下技术特征中的至少一项：

a1)所述碱为有机碱，选自三乙胺、吡啶和二异丙基胺中的一种；

a2)所述第一反应溶剂选自二氯甲烷、氯仿和甲苯中的其中一种或多种。

4.根据权利要求2所述的主链可降解型光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，S2中，还包括如下技术特征中的至少一项：

b1)所述催化剂为对甲苯磺酸；

b2)所述第二反应溶剂选自甲苯或四氢呋喃。

5.一种根据权利要求1所述的主链可降解型光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，所述结构通式为通式Ⅰ-b，合成方法为：

其中，R₁-R₄为权利要求1中化合物结构所定义，R₅为烷基，X为卤素；

A1：初始原料Ⅰ-b-1与乙醇醛二聚体在强碱下，在第三反应溶剂中脱去氢卤酸生成酯类中间体Ⅰ-b-2；

A2：中间体Ⅰ-b-2在还原剂作用下，在第四反应溶液中还原成醇，形成中间体1-b-3；

中间体Ⅰ-b-2和乙醇醛二聚体在催化剂作用下，在第五反应溶剂中发生酯化反应生成主链可降解型光刻胶树脂单体Ⅰ-b；所述第五反应溶剂选自甲苯或四氢呋喃。

6.根据权利要求5所述的主链可降解型光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，A1中，还包括如下技术特征中的至少一项：

c1)所述强碱选自氢化钠、正丁基锂和二异丙基氨基锂中的一种；

c2)所述第三反应溶剂选自四氢呋喃、甲苯、DMF、DMSO中的一种或者多种。

7.根据权利要求5所述的主链可降解型光刻胶树脂单体的制备方法，其特征在于，A2中，还包括如下技术特征中的至少一项：

d1)所述还原剂为氢化铝锂；

d2)所述第四反应溶剂选自四氢呋喃或甲苯。

8.一种根据权利要求1所述的主链可降解型光刻胶树脂单体制备光刻胶的用途。