[发明专利]一种硅油面平滑的重离型离型膜及其生产工艺在审

专利信息
申请号: 202110703318.6 申请日: 2021-06-24
公开(公告)号: CN113386440A 公开(公告)日: 2021-09-14
发明(设计)人: 李刚 申请(专利权)人: 扬州万润光电科技有限公司
主分类号: B32B27/40 分类号: B32B27/40;B32B27/18;B32B7/12;B32B27/08;B32B27/36;B32B27/06;B32B33/00;B32B3/04
代理公司: 北京哌智科创知识产权代理事务所(普通合伙) 11745 代理人: 张浪
地址: 225000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅油 平滑 重离型离型膜 及其 生产工艺
【权利要求书】:

1.一种硅油面平滑的重离型离型膜,其特征在于:包括硅油面套层组件,所述硅油面套层组件的内侧顶部与底部分别铺设有第一抗静电层(3)和第二抗静电层(5),所述第一抗静电层(3)和第二抗静电层(5)之间铺设有支撑层(4),所述硅油面套层组件包括第一硅油面(1)、第二硅油面(2)和弧形硅油面(6),所述第一抗静电层(3)的顶部铺设有第一硅油面(1),所述第二抗静电层(5)的底部铺设有第二硅油面(2),所述第一硅油面(1)和第二硅油面(2)端部一天成型有弧形硅油面(6)。

2.根据权利要求1所述的一种硅油面平滑的重离型离型膜,其特征在于:所述支撑层(4)采用聚对苯二甲酸乙二酯制备而成。

3.根据权利要求2所述的一种硅油面平滑的重离型离型膜,其特征在于:所述硅油面套层组件采用聚对苯二甲酸乙二酯和SiO2混合制备而成。

4.根据权利要求3所述的一种硅油面平滑的重离型离型膜,其特征在于:所述第一抗静电层(3)包括底胶层和面胶层叠合而成。

5.根据权利要求4所述的一种硅油面平滑的重离型离型膜,其特征在于:所述底胶层包括聚氨酯、碳酸钙、导电剂和粘合剂混合而成。

6.根据权利要求5所述的一种硅油面平滑的重离型离型膜,其特征在于:所述面胶层包括聚氨酯、沸石粉、活性剂、消泡剂和导电石墨混合而成。

7.根据权利要求6所述的一种硅油面平滑的重离型离型膜生产工艺,其特征在于:包括如下步骤:

步骤1:称取聚对苯二甲酸乙二酯和SiO2以及清水,并将称取的聚对苯二甲酸乙二酯和SiO2以及清水通入至混合搅拌箱内进行高温混合搅拌获取硅油面套层初级混合物;

步骤2:将高温混合后的硅油面套层初级混合物投入至条环型凹槽磨具内进行高温加热蒸馏去除高温混合后的硅油面套层初级混合物内清水;

步骤3:取出条环型凹槽磨具内低温固化后的硅油面套层初级混合物构成硅油面套层组件;

步骤4:获取聚氨酯、碳酸钙、导电剂和粘合剂投入至混合搅拌箱内进行高温混合搅拌并获取底胶层初级混合物;

步骤5:将混合后的底胶层初级混合物铺在板型磨具上进行低温固化构成底胶层;

步骤6:获取聚氨酯、沸石粉、活性剂、消泡剂和导电石墨投入至混合搅拌箱内进行高温混合搅拌并获取面胶层初级混合物;

步骤7:将混合后的面胶层初级混合物铺在板型磨具上进行低温固化构成面胶层;

步骤8:将面胶层与底胶层铺设在一起构成第一抗静电层(3)和第二抗静电层(5);

步骤9:将第一抗静电层(3)和第二抗静电层(5)铺设在硅油面套层组件的内侧然后再将支撑层(4)铺设在第一抗静电层(3)和第二抗静电层(5)之间构成离型膜。

8.根据权利要求7所述的一种硅油面平滑的重离型离型膜生产工艺,其特征在于:其中步骤1中温度在800-1000℃,其中步骤2中温度在1200-1600℃。

9.根据权利要求8所述的一种硅油面平滑的重离型离型膜生产工艺,其特征在于:其中步骤3和步骤5以及步骤7低温在-100--50℃。

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