[发明专利]一种基于自旋轨道转矩的电流调控磁性随机存储器有效

专利信息
申请号: 202110703321.8 申请日: 2021-06-24
公开(公告)号: CN113437210B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 冯重舒;周铁军;骆泳铭;樊浩东;庄燕山 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: H10N50/10 分类号: H10N50/10;H10N50/85;H10N50/01
代理公司: 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 代理人: 杨舟涛
地址: 310018 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 自旋 轨道 转矩 电流 调控 磁性 随机 存储器
【权利要求书】:

1.一种基于自旋轨道转矩的电流调控磁性随机存储器,其特征在于,该磁场传感器件具有多层膜结构,结构为:从上到下依次为保护层、薄膜层、导电层、缓冲层,所述导电层用于接入调控电流和测量电压,从而通过不断施加脉冲电流来控制其电阻的大小;其中保护层、薄膜层、导电层、缓冲层经过刻蚀微纳加工成的结构为十字结构,所述的薄膜层由Co、Pt多层膜构成,从上到下由Pt、Co、Pt、Co结构构成,两层Pt的厚度皆为0.2-0.3nm;上层Co的厚度为0.4-0.6nm,底层Co的厚度为1.0-1.2nm,或底层Co的厚度为0.4-0.6nm,上层Co的厚度为1.0-1.2nm。

2.根据权利要求1所述的一种基于自旋轨道转矩的电流调控磁性随机存储器,其特征在于,所述导电层应为导电材料,为Pt,厚度为3-5nm。

3.根据权利要求1所述的一种基于自旋轨道转矩的电流调控磁性随机存储器,其特征在于,所述保护层应为保护材料,为Ta,厚度为3-5nm。

4.根据权利要求1所述的一种基于自旋轨道转矩的电流调控磁性随机存储器,其特征在于,所述的缓冲层为缓冲材料Ta,厚度应为3-5nm。

5.根据权利要求1所述的一种基于自旋轨道转矩的电流调控磁性随机存储器,其特征在于:给器件X方向两电极通入脉冲电流Is,可在Y方向两电极处可采集到电压Us,随着脉冲电流Is的强度不断改变,器件的电阻也相应的变化,从而实现信息存储。

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