[发明专利]一类分子玻璃的合成方法及其作为高频低介电常数材料的应用

权利要求书

1.一种“分子玻璃”单体，其特征在于，所述单体具有如下式(I)所示的分子结构：

其中，

各个R₁各自独立地选自下组：氢、卤素、取代或未取代的C1-C6烷基、取代或未取代的C2-C6烯基、取代或未取代的C1-C15烷基硅基，其中所述的取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的取代基取代：卤素、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、未取代的或苯环上的1-3个氢原子被选自下组的取代基取代的苯基：卤素、C1-C4烷基；

各个R₂各自独立地选自下组：C3-C8苯并环烯基、C2-C6烯基苯基；

R₃、R₄各自独立地选自下组：氢、取代或未取代的C1-C6烷基、取代或未取代的C6-C10芳基，其中所述的取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的取代基取代：卤素、C1-C4烷基；

其中，所述“C3-C8苯并环烯基”是指由一个苯环和一个具有3-8个碳原子的环烷烃组成的多环苯并环烷烃在苯环上失去一个氢原子形成的基团；

所述“C2-C6烯基苯基”是指苯取代具有2-6个碳原子的烯烃的一个氢原子形成的化合物在苯环上失去一个氢原子形成的基团。

2.如权利要求1所述的“分子玻璃”单体，其特征在于，

各个R₁各自独立地选自下组：氢、卤素、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、取代或未取代C2-C6烯基、取代或未取代的C1-C15烷基硅基；其中所述的取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的取代基取代：卤素、C1-C4烷基、C2-C4烯基、C2-C4炔基、未取代的或苯环上的1-3个氢原子被选自下组的取代基取代的苯基：卤素、C1-C4烷基；

各个R₂各自独立地选自下组：苯并环丁烯基、苯乙烯基；

R₃、R₄相同或不同，相同时，选自如下基团：氢、C1-C6烷基、C1-C6卤代烷基、取代或未取代的C6-C10芳基；不相同时，R₃和R₄中之一为C1-C6烷基和C1-C6卤代烷基，R₃和R₄中另一个为取代或未取代的C6-C10芳基，其中所述的取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的取代基取代：卤素、C1-C4烷基；

其中，所述苯乙烯基为

3.如权利要求1所述的“分子玻璃”单体，其特征在于，各个R₁各自独立地选自下组：氢、氟、C1-C4烷基、C1-C4氟代烷基、C1-C12烷基硅基；

各个R₂各自独立地选自下组：苯并环丁烯基、苯乙烯基；

R₃、R₄相同或不同，相同时，选自如下基团：氢、C1-C4烷基、C1-C4氟代烷基、取代苯基；不相同时，R₃和R₄中之一为C1-C4烷基和C1-C4氟代烷基，R₃和R₄中另一个为取代苯基，其中所述的取代指基团上的一个或多个氢原子被选自下组的取代基取代：氟、C1-C4烷基；

其中，所述苯乙烯基为

4.如权利要求1所述的“分子玻璃”单体，其特征在于，各个R₁各自独立地选自下组：氢、氟、甲基、乙基、异丙基、叔丁基、三甲基硅基、三乙基硅基、三异丙基硅基、三丁基硅基、三氟甲基。

5.如权利要求1或4所述的“分子玻璃”单体，其特征在于，R₃、R₄相同或不同，相同时，选自如下基团：氢、三氟甲基、甲基，取代苯基；不相同时，为甲基和取代苯基，三氟甲基和取代苯基；其中，所述的取代是指基团被一个或多个选自如下所述的取代基所取代：C1-C4的烷基和氟原子。

6.如权利要求1所述的“分子玻璃”单体，其特征在于，所述单体选自下组：