[发明专利]反射式纯相位液晶空间光调制器及其制备、盒厚测试方法

权利要求书

1.一种反射式纯相位液晶空间光调制器，其特征在于：包括上盖板玻璃、第二电极层、上取向层、液晶分子层、下取向层、第一电极层、像素电路层、下盖板玻璃和透明支撑柱；

所述上盖板玻璃、第二电极层、上取向层由上至下依次设置形成上基板，且上盖板玻璃上设置有遮光层；

所述下取向层、第一电极层、像素电路层、下盖板玻璃由上至下依次设置形成下基板；

所述透明支撑柱与第二电极层连接，其设置在液晶分子层中，排布在像素非开口区；

所述像素电路层采用大面阵薄膜晶体管TFT-LCD电路基板；

所述第一电极层包括反射层和设置在反射层两侧的保护层，用于实现TFT-LCD电路基板的反射式光路；

所述液晶分子层设置在上基板和下基板之间，且液晶分子层的四周设置有周边框胶，所述透明支撑柱、周边框胶和液晶分子实现盒厚均一。

2.根据权利要求1所述的反射式纯相位液晶空间光调制器，其特征在于：所述反射层为Ag层或Al层，所述保护层为ITO层或Ti层。

3.根据权利要求2所述的反射式纯相位液晶空间光调制器，其特征在于：所述第一电极层包括依次设置的ITO层、Ag层和ITO层，或者依次设置的ITO层、Al层和ITO层，或者依次设置的Ti层、Ag层和Ti层。

4.根据权利要求1或2或3所述的反射式纯相位液晶空间光调制器，其特征在于：所述上盖板玻璃、第二电极层之间设置有色阻层。

5.根据权利要求4所述的反射式纯相位液晶空间光调制器，其特征在于：所述透明支撑柱通过采用涂胶、光刻的方式在第二电极层上制作。

6.根据权利要求5所述的反射式纯相位液晶空间光调制器，其特征在于：透明支撑柱的形状为圆柱状、圆台状或椭圆条状。

7.根据权利要求6所述的反射式纯相位液晶空间光调制器，其特征在于：所述液晶分子层为ECB模式或VA模式，所述ECB模式为反平行配向和无手性剂的正性向列型液晶，所述VA模式为反平行配向和无手性剂的负性向列型液晶。

8.一种反射式纯相位液晶空间光调制器的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、制备上基板；

1.1)在上盖板玻璃制作基准层，即制作遮光层；

1.2)在遮光层上制作第二电极层；

1.4)在第二电极层上制作透明支撑柱；

该步骤中，采用涂胶、光刻的方式在第二电极层上制作透明支撑柱；

步骤二、制备下基板；

2.1)在下盖板玻璃制作TFT-LCD像素电路层；

2.2)在TFT-LCD像素电路层上制作第一电极层；

所述第一电极层包括反射层和设置在反射层两侧的保护层，用于实现TFT-LCD电路基板的反射式光路；

步骤三、组合封装；

3.1)在第二电极层上制作上取向层形成上基板，在第一电极层上制作下取向层形成下基板；

若第一电极层为有机膜，有机膜上进行第一电极层蒸镀时选择高温真空镀膜，若第一电极层为无机膜，无机膜上进行第一电极层蒸镀时选择常温真空镀膜；

3.2)分别在上基板、下基板上涂布密封胶和滴注液晶材料；

3.3)对步骤3.2)处理后的上基板、下基板进行真空贴附；

3.4)对密封胶进行固化；

3.5)对步骤3.4)处理后的产品进行切割，切割至目标大小，完成制备。

9.根据权利要求8所述的反射式纯相位液晶空间光调制器的制作方法，其特征在于：步骤1.1)和步骤1.2)之间还包括以下过程：在基准层上继续制作色阻层。

10.一种反射式纯相位液晶空间光调制器的盒厚测试方法，其特征在于，包括以下步骤：

首先，用等厚保护层代替反射层；其次，将等效替代后的液晶盒当成透射式液晶盒进行盒厚测量，从而得到液晶盒厚。