[发明专利]一种基于多层氧化物薄膜结构的折射率传感器

权利要求书

1.一种基于多层氧化物薄膜结构的折射率传感器，其特征在于所述的基于多层氧化物薄膜结构的折射率传感器结构从下到上包括棱镜、第一层氧化物薄膜、第二层氧化物薄膜和第三层氧化物薄膜，其中棱镜位于最下层，第一层氧化物薄膜位于棱镜上方，第二层氧化物薄膜位于第一层氧化物薄膜上方，第三层氧化物薄膜位于第二层氧化物薄膜上方。

2.根据权利要求1所述的一种基于多层氧化物薄膜结构的折射率传感器，其特征在于所述的棱镜为半圆柱形棱镜，棱镜材料为金红石或Ge₂₀Ga₅Sb₁₀S₆₅。

3.根据权利要求1所述的一种基于多层氧化物薄膜结构的折射率传感器，其特征在于所述的第一层氧化物薄膜为氧化铟锡薄膜、掺铝氧化锌薄膜和掺镓氧化锌薄膜其中之一。

4.根据权利要求1所述的一种基于多层氧化物薄膜结构的折射率传感器，其特征在于所述的第二层氧化物薄膜为二氧化硅薄膜、三氧化二铝薄膜和氧化镁薄膜其中之一。

5.根据权利要求1所述的一种基于多层氧化物薄膜结构的折射率传感器，其特征在于所述的第三层氧化物薄膜为二氧化钛薄膜、氧化锌薄膜、二氧化锆薄膜和二氧化铪薄膜其中之一。

6.根据权利要求1所述的一种基于多层氧化物薄膜结构的折射率传感器，其特征在于所述的第一层氧化物薄膜的厚度为50nm-200nm。

7.根据权利要求1所述的一种基于多层氧化物薄膜结构的折射率传感器，其特征在于所述的第二层氧化物薄膜的厚度为200nm-2000nm。

8.根据权利要求1所述的一种基于多层氧化物薄膜结构的折射率传感器，其特征在于所述的第三层氧化物薄膜的厚度为100nm-1000nm。