[发明专利]卤素含氧酸溶液的制造方法和制造装置在审

专利信息
申请号: 202110710039.2 申请日: 2021-06-25
公开(公告)号: CN113842866A 公开(公告)日: 2021-12-28
发明(设计)人: 根岸贵幸;下田享史;斋藤聪洋;松田直树;柿囿兼一;河野武史;森胁正之 申请(专利权)人: 株式会社德山
主分类号: B01J19/26 分类号: B01J19/26;B01J19/00;B01J4/00;B01J10/00;C11D7/10;C11D7/32;C11D7/60
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 卤素 含氧酸 溶液 制造 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种卤素含氧酸溶液的制造方法,其中,将有机碱溶液和卤素连续地供给至静态型混合器并进行混合,连续地获得所产生的卤素含氧酸。

2.根据权利要求1所述的卤素含氧酸溶液的制造方法,其中,以通过了所述静态型混合器的所述有机碱溶液与卤素的混合液在25℃时的pH大于10.5且小于14.1的方式,控制原料的供给比例。

3.根据权利要求2所述的卤素含氧酸溶液的制造方法,其中,所述混合液在25℃时的pH为12.0以上且13.8以下。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的卤素含氧酸溶液的制造方法,其中,分多阶段供给所述卤素。

5.根据权利要求1~3中任一项所述的卤素含氧酸溶液的制造方法,其中,分多阶段进行所述混合。

6.根据权利要求1~3中任一项所述的卤素含氧酸溶液的制造方法,其中,所述静态型混合器为喷射器、撞击式静态型混合器或Sulzer型的静态型混合器。

7.根据权利要求1~3中任一项所述的卤素含氧酸溶液的制造方法,其中,将所述卤素含氧酸溶液取出而不在其制造工序中循环。

8.根据权利要求1~3中任一项所述的卤素含氧酸溶液的制造方法,其中,所述有机碱溶液在25℃时的pH为10.5以上且14.5以下。

9.根据权利要求1~3中任一项所述的卤素含氧酸溶液的制造方法,其中,所述有机碱为氢氧化鎓,所述卤素含氧酸为卤素含氧酸鎓。

10.根据权利要求9所述的卤素含氧酸溶液的制造方法,其中,所述氢氧化鎓为氢氧化烷基季铵,所述卤素含氧酸鎓为次卤酸烷基季铵。

11.根据权利要求10所述的卤素含氧酸溶液的制造方法,其中,所述氢氧化烷基季铵为氢氧化四甲基铵。

12.根据权利要求1~3中任一项所述的卤素含氧酸溶液的制造方法,其中,所述卤素为氯、溴、次氯酸、次溴酸、亚氯酸、亚溴酸、氯酸、溴酸、碘、次碘酸、亚碘酸或碘酸。

13.根据权利要求1~3中任一项所述的卤素含氧酸溶液的制造方法,其中,所述卤素为氯。

14.一种卤素含氧酸溶液的制造装置,其具备:静态型混合器、向该静态型混合器中进行供给的有机碱溶液供给单元和卤素供给单元、以及用于将反应液从该静态型混合器取出至外部的反应液取出单元,

通过分别利用有机碱溶液供给单元和卤素供给单元向静态型混合器中连续供给有机碱溶液和卤素并进行混合,从而以反应液的形式生成卤素含氧酸溶液,利用反应液取出单元连续地取出反应液。

15.根据权利要求14所述的卤素含氧酸溶液的制造装置,其中,在所述静态型混合器的下游侧且所述反应液取出单元的上游侧,还具备1个以上的其它的静态型混合器,且还具备用于对该其它的静态型混合器分别供给卤素的卤素供给单元。

16.根据权利要求14或15所述的卤素含氧酸溶液的制造装置,其还具备进行反应液的热交换的换热器。

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