[发明专利]大视场投影物镜及光刻机在审
申请号: | 202110710763.5 | 申请日: | 2021-06-25 |
公开(公告)号: | CN115524927A | 公开(公告)日: | 2022-12-27 |
发明(设计)人: | 安福平;储兆祥 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B13/14;G02B13/06;G02B13/18 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 郑星 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 视场 投影 物镜 光刻 | ||
1.一种大视场投影物镜,用于将物方的图像投影在像方上,其特征在于,包括从物方开始沿光轴依次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组,所述第一透镜组的焦距、所述第二透镜组的焦距、所述第三透镜组的焦距和所述第四透镜组的焦距满足如下关系式:
1.06|f1/f2|1.26;
1.76|f2/f3|1.90;
1.80|f3/f4|2.00;
3.85|f1/f4|4.25;
其中,f1表示所述第一透镜组的焦距,f2表示所述第二透镜组的焦距,f3表示所述第三透镜组的焦距,f4表示所述第四透镜组的焦距。
2.如权利要求1所述的大视场投影物镜,其特征在于,所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组和所述第四透镜组均具有正光焦度;所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组和所述第四透镜组均包括非球面透镜,每个所述非球面透镜具有一个非球面表面,所述第一透镜组、所述第二透镜组、所述第三透镜组和所述第四透镜组中的所述非球面透镜的数量之和小于等于11。
3.如权利要求2所述的大视场投影物镜,其特征在于,所述第一透镜组包括沿光轴依次排列的第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜,所述第一透镜和所述第二透镜为非球面透镜,且所述第一透镜和所述第二透镜靠近所述物方一侧的表面为非球面表面。
4.如权利要求3所述的大视场投影物镜,其特征在于,所述第一透镜和所述第二透镜均具有负光焦度,所述第三透镜和所述第四透镜均具有正光焦度,其中,所述第一透镜为双凹形负透镜,所述第二透镜为弯月形负透镜,所述第三透镜为平凸形正透镜,所述第四透镜为双凸形正透镜。
5.如权利要求4所述的大视场投影物镜,其特征在于,所述第二透镜的凹面朝向所述物方,且所述第二透镜的凹面为非球面表面。
6.如权利要求2所述的大视场投影物镜,其特征在于,所述第二透镜组包括:
第一子透镜组,包括至少两片非球面透镜,所有的非球面透镜靠近像方一侧的表面为非球面表面;
第二子透镜组,包括至少三片非球面透镜,所有的非球面透镜靠近所述物方一侧的表面为非球面表面;
其中,所述第一子透镜组较所述第二子透镜组靠近所述物方。
7.如权利要求6所述的大视场投影物镜,其特征在于,所述第一子透镜组包括沿光轴依次排列的第五透镜、第六透镜和第七透镜,所述第六透镜和所述第七透镜均为非球面透镜,且所述第六透镜和所述第七透镜靠近所述像方一侧的表面为非球面表面;
所述第二子透镜组包括沿光轴依次排列的第八透镜、第九透镜、第十透镜和第十一透镜,所述第八透镜、所述第九透镜和所述第十透镜均为非球面透镜,且所述第八透镜、所述第九透镜和所述第十透镜靠近所述物方一侧的表面均为非球面表面。
8.如权利要求7所述的大视场投影物镜,其特征在于,所述第五透镜、所述第六透镜、所述第十透镜和所述第十一透镜均具有正光焦度,所述第七透镜、所述第八透镜和所述第九透镜均具有负光焦度,其中,所述第五透镜和所述第十一透镜均为双凸形正透镜;所述第六透镜和所述第十透镜均为弯月形正透镜;所述第七透镜、所述八透镜和所述第九透镜均为双凹形负透镜。
9.如权利要求8所述的大视场投影物镜,其特征在于,所述第六透镜的凹面朝向所述像方,且所述第六透镜的凹面为非球面表面;所述第十透镜的凹面朝向所述物方,且所述第十透镜的凹面为非球面表面。
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