[发明专利]基于旋转式光伏晶片双面清洗方法

权利要求书

1.基于旋转式光伏晶片双面清洗设备的清洗方法，其特征在于：其操作步骤如下：

(一)、清洗准备阶段

所述清洗准备阶段中使旋转式光伏晶片双面清洗设备的清洗设备处于工作状态；

(二)、清洗阶段

S4、由转动电机(121)输出轴带动毛刷辊(120)转动在清洗架(110)底部，使毛刷辊(120)旋转刷动光伏晶片表面的灰尘杂质，同时由打扫电机(2212)输出轴带动打扫辊(221)转动在打扫架(220)内部，打扫毛刷(2211)随着打扫辊(221)转动时，可以对光伏晶片的底部边缘处进行打扫；

S5、由水泵将水箱(134)内部的水从输水管(133)输送到固定箱(131)内部，然后由出水口(1310)喷射处水流对光伏晶片上表面进行冲洗；

S6、推拉连接架(210)，使顶部清洗机构(100)和底部边缘打扫机构(200)滑动在光伏晶片外壁，带动滚轮(231)转动在转槽(230)内部，滚轮(231)外壁沿着光伏晶片外壁滚动，使顶部清洗机构(100)对光伏晶片上表面清洗的同时，底部边缘打扫机构(200)对光伏晶片底部边缘处进行打扫。

2.根据权利要求1所述的基于旋转式光伏晶片双面清洗设备的清洗方法，其特征在于：

清洗阶段的S6步骤后还包括S7步骤：

S7、由位于打扫架(220)下方的引风机(2230)内部的马达带动风扇转动，使光伏晶片底部边缘处的灰尘和清洗后的污水吸附在收集箱(223)内部进行收集。

3.根据权利要求2所述的基于旋转式光伏晶片双面清洗设备的清洗方法，其特征在于：

所述收集箱(223)还设置有过滤网，灰尘和污水经过过滤网(224)过滤掉落到收集箱(223)内部。

4.根据权利要求1所述的基于旋转式光伏晶片双面清洗设备的清洗方法，其特征在于：

通过机械手吸附住光伏晶片，经过两侧的两个底部边缘打扫机构(200)之间的空间，从而使光伏晶片能够通过顶部清洗机构(100)与底部边缘打扫机构(200)之间。

5.根据权利要求1所述的基于旋转式光伏晶片双面清洗设备的清洗方法，其特征在于：

所述清洗准备阶段包括：

S1、由移动电机(1140)输出轴带动移动丝杆(114)转动在凹槽(113)内部，从而使移动板(1120)表面沿着移动丝杆(114)外壁的螺纹滑动，根据光伏晶片的长度，使活动板(112)在凹槽(113)内部滑动，调节两个固定架(111)之间的距离，使连接架(210)外壁位于光伏晶片两侧；

S2、带动其中一个固定箱(131)端部的活动箱(132)滑动在另一个固定箱(131)内部，使活动箱(132)滑出固定箱(131)，进入固定箱(131)内部的水进入活动箱(132)内部，从多个连通孔(1320)流出，调节洒水的范围，同时带动滑杆(124)滑出滑槽(123)内部，使延伸毛刷(1240)从滑槽(123)外侧伸展开，从而可以根据不同的光伏晶片长度调节刷动的范围；

S3、将顶部清洗机构(100)位于光伏晶片上表面，通过连接架(210)使打扫架(220)位于光伏晶片底部。

6.根据权利要求5所述的基于旋转式光伏晶片双面清洗设备的清洗方法，其特征在于：

S3步骤后，通过握住转盘(213)带动调节丝杆(212)转动在调节槽(211)内部，带动调节板(222)表面沿着调节丝杆(212)外壁的螺纹滑动，从而带动打扫架(220)上下运动，根据光伏晶片的厚度调节打扫架(220)到光伏晶片底部的距离，使打扫毛刷(2211)端部可以贴合光伏晶片底部边缘处。

7.根据权利要求1所述的基于旋转式光伏晶片双面清洗设备的清洗方法，其特征在于：

所述出水口(1310)还可以喷射清洗液。

8.根据权利要求1所述的基于旋转式光伏晶片双面清洗设备的清洗方法，其特征在于：

所述毛刷辊(120)和打扫辊(221)保持同步转动。