[发明专利]彩膜基板及其制作方法

权利要求书

1.一种彩膜基板，包括第一衬底基板、第一偏光片以及彩色滤光层，所述第一偏光片设置于所述第一衬底基板上，其特征在于，所述彩膜基板还包括：

蓝光吸收薄膜，所述蓝光吸收薄膜设置于所述第一衬底基板和所述彩色滤光层之间，所述蓝光吸收薄膜能够过滤400nm-450nm之间的高能短波蓝光的同时，能够阻断所述第一衬底基板的金属离子扩散到所述彩色滤光层，或者所述蓝光吸收薄膜设置于所述第一衬底基板和所述第一偏光片之间，所述蓝光吸收薄膜能够过滤400nm-450nm之间的高能短波蓝光的同时，能够增强所述第一偏光片的粘着力，且用于保护所述第一偏光片内部的三醋酸纤维素；

其中，所述蓝光吸收薄膜为经过固化成型的透明有机树脂，所述蓝光吸收薄膜的折射率与所述第一衬底基板的折射率相异，所述蓝光吸收薄膜的雾度与所述第一衬底基板的雾度相异，用于减少光反射或扩散到阵列基板侧，所述蓝光吸收薄膜的雾度为0.1％-0.2％，所述蓝光吸收薄膜的膜厚为1.5-2.0um；或者所述蓝光吸收薄膜的雾度为0.4％-0.6％，所述蓝光吸收薄膜的膜厚为2.5-3.0um。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述蓝光吸收薄膜的黄色指数为1-15。

3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述蓝光吸收薄膜的黄色指数为3-10，所述蓝光吸收薄膜的膜厚为1.5-3.0um。

4.如权利要求1至3任一项所述的彩膜基板，其特征在于，所述蓝光吸收薄膜具有大于300℃的玻璃转变温度。

5.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供第一衬底基板；

在所述第一衬底基板的下表面制备一层蓝光吸收薄膜，在所述蓝光吸收薄膜的背离所述第一衬底基板的一侧制备一层彩色滤光层，所述蓝光吸收薄膜能够过滤400nm-450nm之间的高能短波蓝光的同时，能够阻断第一衬底基板的金属离子扩散到所述彩色滤光层；或者

在所述第一衬底基板的上表面制备一层蓝光吸收薄膜，在所述蓝光吸收薄膜的背离第一衬底基板的一侧制备一层第一偏光片，所述蓝光吸收薄膜能够过滤400nm-450nm之间的高能短波蓝光的同时，能够增强第一偏光片的粘着力，且用于保护所述第一偏光片内部的三醋酸纤维素；

其中，所述蓝光吸收薄膜的折射率与所述第一衬底基板的折射率相异，所述蓝光吸收薄膜的雾度与所述第一衬底基板的雾度相异，用于减少光反射或扩散到阵列基板侧，所述蓝光吸收薄膜的雾度为0.1％-0.2％，所述蓝光吸收薄膜的膜厚为1.5-2.0um；或者所述蓝光吸收薄膜的雾度为0.4％-0.6％，所述蓝光吸收薄膜的膜厚为2.5-3.0um。

6.如权利要求5所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在所述蓝光吸收薄膜的制备步骤中，在所述第一衬底基板上贴附所述蓝光吸收薄膜，或者在所述第一衬底基板上采用涂布方式制备出一层所述蓝光吸收薄膜。

7.如权利要求6所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在所述蓝光吸收薄膜制备步骤中，对所述蓝光吸收薄膜进行预烘烤，所述预烘烤的温度范围为70～100℃；

对所述蓝光吸收薄膜进行固烤，所述固烤的温度范围为210～240℃。