[发明专利]一种基于阵列环形凸起靶板的冲击冷却结构

权利要求书

1.一种基于阵列环形凸起靶板的冲击冷却结构，包括进气腔、冲击板和冲击靶板，冷却气体进入所述进气腔通过冲击板上的冲击孔垂直射向冲击靶板面上；其特征在于：还包括设置于冲击靶板上的阵列环形凸起和若干气膜孔，各环形凸起均位于沿流向相邻的冲击孔之间，且阵列环形凸起的展向间距、流向间距均与冲击孔的展向间距、流向间距一致；所述若干气膜孔沿流向位于冲击靶板上的阵列环形凸起的下游；冷却气体通过冲击孔垂直射向冲击靶板，在冲击靶板上折转90°后途经环形凸起，流向下游气膜孔，并从气膜孔流出进行外部冷却；

所述冲击板与冲击靶板之间的距离为冲击距离H，所述冲击孔的直径为d。

2.根据权利要求1所述基于阵列环形凸起靶板的冲击冷却结构，其特征在于：所示冲击距离H为1.8～2.2d；沿流向相邻冲击孔间距为9～11d，展向相邻冲击孔间距为7～9d。

3.根据权利要求1所述基于阵列环形凸起靶板的冲击冷却结构，其特征在于：第一排所示冲击孔的出口中心沿流向距离最近一排气膜孔入口中心为10倍气膜孔直径。

4.根据权利要求1所述基于阵列环形凸起靶板的冲击冷却结构，其特征在于：所述环形凸起是径向截面为半圆的环形结构，其底平面平行固定于冲击靶板上，半圆环位于上方。

5.根据权利要求4所述基于阵列环形凸起靶板的冲击冷却结构，其特征在于：所述环形凸起的径向截面半圆直径为0.3～0.4d，半圆圆心距环形凸起中心距离为0.6～0.7d。

6.根据权利要求1所述基于阵列环形凸起靶板的冲击冷却结构，其特征在于：所述各环形凸起均位于沿流向相邻的冲击孔之间中点的位置，即沿流向相邻的两两冲击射流的中心。

7.根据权利要求1所述基于阵列环形凸起靶板的冲击冷却结构，其特征在于：所述气膜孔的入射角为15°～45°。