[发明专利]一种基于圆台加圆柱形凸起的阵列冲击结构

权利要求书

1.一种基于圆台加圆柱形凸起的阵列冲击结构，包括进气腔、冲击板和冲击靶板，冷却气体进入所述进气腔通过冲击板上的冲击孔垂直射向冲击靶板面上；其特征在于：还包括设置于冲击靶板上的阵列圆台加圆柱形凸起和若干气膜孔，所述圆台加圆柱形凸起与冲击板上的冲击孔同轴相对设置；所述若干气膜孔沿流向位于冲击靶板上的阵列圆台加圆柱形凸起的下游；冷却气体通过冲击孔垂直射向冲击靶板经阵列圆台加圆柱形凸起折转，流向下游气膜孔，并从气膜孔流出进行外部冷却；

所述圆台加圆柱形凸起包括圆台和圆柱，圆台大端作为底面平行固定于冲击靶板上，圆柱同轴固定于圆台位于上方的小端面上；

所述冲击板与冲击靶板之间的距离为冲击距离H，所述冲击孔的直径为d。

2.根据权利要求1所述基于圆台加圆柱形凸起的阵列冲击结构，其特征在于：所述冲击距离H为1.8～2.2d，沿流向相邻冲击孔间距为9～11d，展向相邻冲击孔间距为7～9d。

3.根据权利要求1所述基于圆台加圆柱形凸起的阵列冲击结构，其特征在于：第一排所示冲击孔的出口中心沿流向距离最近一排气膜孔入口中心为10倍气膜孔直径。

4.根据权利要求1所述基于圆台加圆柱形凸起的阵列冲击结构，其特征在于：所述圆台加圆柱形凸起的圆台外周面的母线与轴线夹角为45°；所述圆台大端直径等于冲击孔直径，小端直径与圆柱的直径相等，均等于冲击孔直径的1/2。

5.根据权利要求1所述基于圆台加圆柱形凸起的阵列冲击结构，其特征在于：所述圆柱的轴向高度为0.16～0.17d。

6.根据权利要求1所述基于圆台加圆柱形凸起的阵列冲击结构，其特征在于：所述气膜孔的入射角为15°～45°。