[发明专利]一种光刻胶及图案化方法有效
申请号: | 202110716154.0 | 申请日: | 2021-06-25 |
公开(公告)号: | CN113341651B | 公开(公告)日: | 2023-08-25 |
发明(设计)人: | 张腾;刘洪雷;胡凡华;朴大然;卢克军;张宁 | 申请(专利权)人: | 北京北旭电子材料有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/008;G03F7/00 |
代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 唐菲 |
地址: | 100015 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 图案 方法 | ||
本申请提供一种光刻胶及图案化方法,属于光刻技术领域。光刻胶包括酚醛树脂和感光剂,感光剂包括第一感光物质和第二感光物质,第一感光物质为多环芳烃与2‑叠氮‑1‑萘酚‑5‑磺酰氯和/或多环芳烃与2‑叠氮‑1‑萘酚‑4‑磺酰氯取代反应的产物,第二感光物质为酚醛树脂四聚体与2‑叠氮‑1‑萘酚‑5‑磺酰氯和/或酚醛树脂四聚体与2‑叠氮‑1‑萘酚‑4‑磺酰氯取代反应的产物。该酚醛树脂型光刻胶能够兼具较好的分辨率以及抗干刻性能。
技术领域
本申请涉及光刻技术领域,具体而言,涉及一种光刻胶及图案化方法。
背景技术
尽管随着集成度的提高,IC关键层的分辨率要求越来越高,但为了成本控制,其非关键层的图像成形使用的光刻胶仍然以I线正型光刻胶为主。IC非关键层图形化工艺要求光刻胶具有较高的分辨率以及优异的抗干刻性能,然而,现有的酚醛树脂型I线正型光刻胶,通产难以兼具较高的分辨率以及优异的抗干刻性能。
发明内容
本申请的目的在于提供一种光刻胶及图案化方法,该酚醛树脂型光刻胶能够兼具较好的分辨率以及抗干刻性能。
本申请的实施例是这样实现的:
第一方面,本申请实施例提供一种光刻胶,包括酚醛树脂和感光剂,感光剂包括第一感光物质和第二感光物质,第一感光物质为多环芳烃与2-叠氮-1-萘酚-5-磺酰氯和/或多环芳烃与2-叠氮-1-萘酚-4-磺酰氯反应的产物,第二感光物质为酚醛树脂四聚体与2-叠氮-1-萘酚-5-磺酰氯和/或酚醛树脂四聚体与2-叠氮-1-萘酚-4-磺酰氯反应的产物。
第二方面,本申请实施例提供一种图案化方法,包括:采用如第一方面实施例提供的光刻胶形成光刻胶层,并采用包括I线的光源通过掩模板对光刻胶层进行曝光,然后显影去除光刻胶层的曝光部分形成光刻胶图案。
本申请实施例提供的光刻胶及图案化方法,有益效果包括:
本申请的酚醛树脂型的光刻胶,采用特定的第一感光物质和第二感光物质进行配合,光刻胶的分辨率能够达到0.35μm且1.0μm厚度的涂层刻蚀后剩余膜厚度能够达到使得光刻胶能够兼具较好的分辨率以及抗干刻性能。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本申请实施例5提供的光刻胶的分辨率检测图,图左的线宽为0.5μm,图右的线宽为0.35μm;
图2为本申请实施例8提供的光刻胶的分辨率检测图,图左的线宽为0.5μm,图右的线宽为0.35μm;
图3为本申请实施例5和对比例1提供的光刻胶的断面图,图左为对比例1在线宽为1μm的条件下的断面图,图右为实施例5在线宽为0.35μm的条件下的断面图。
具体实施方式
为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者,按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市售购买获得的常规产品。
需要说明的是,本申请中的“和/或”,如“特征1和/或特征2”,均是指可以单独地为“特征1”、单独地为“特征2”、“特征1”加“特征2”,该三种情况。
另外,在本申请的描述中,除非另有说明,“一种或多种”中的“多种”的含义是指两种及两种以上;“数值a~数值b”的范围包括两端值“a”和“b”,“数值a~数值b+计量单位”中的“计量单位”代表“数值a”和“数值b”二者的“计量单位”。
下面对本申请实施例的光刻胶及图案化方法进行具体说明。
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