[发明专利]掩膜板的清洗设备

权利要求书

1.一种掩膜板的清洗设备，其特征在于，包括：槽体组件、循环过滤组件、杂质吸附组件及溶剂回收组件；

所述槽体组件包括清洗槽及溢流槽，所述清洗槽用于容置清洗溶剂以对所掩膜板进行清洗；所述溢流槽设置于所述清洗槽的至少一侧，用于回收所述清洗槽溢流的清洗溶剂；

所述循环过滤组件与所述清洗槽及所述溶剂回收组件连接，用于向所述清洗槽供给清洗溶剂，并且能使所述清洗溶剂在所述清洗槽内循环流动；

所述杂质吸附组件包括第一吸附装置及第二吸附装置中的至少一种，所述第一吸附装置设置于所述清洗槽与所述循环过滤组件之间，用于对所述清洗槽流出的清洗溶剂进行杂质吸附；所述第二吸附装置设置于所述溢流槽及所述溶剂回收组件之间，用于对所述溢流槽流出的清洗溶剂进行杂质吸附；

所述溶剂回收组件用于回收所述溢流槽的清洗溶剂，并且通过所述循环过滤组件向所述清洗槽供给清洗溶剂，以及所述溶剂回收组件与一供给源连接，用于通过所述循环过滤组件向所述清洗槽供给清洗溶剂；其中，所述溶剂回收组件用于对所述溢流槽流出的清洗溶剂进行蒸馏提纯。

2.如权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗设备还包括喷淋管组件，所述喷淋管组件沿所述清洗槽的长度方向延伸设置，所述溢流槽沿所述清洗槽的长度方向延伸设置在所述清洗槽的外侧，所述喷淋管组件用于向所述清洗槽的液面喷淋清洗溶剂；所述清洗槽与所述溢流槽贴合的侧壁顶端开设有波浪形溢流口。

3.如权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述第一吸附装置及所述第二吸附装置均包括有壳体及吸附组件，所述壳体内具有多条并列设置的且首尾相连的流体通路，所述壳体的两侧还设置有进液口及出液口，所述进液口及所述出液口分别与位于所述壳体两侧的所述流体通路连通；多个所述吸附组件沿所述流体通路的延伸方向依次排布。

4.如权利要求3所述的清洗设备，其特征在于，所述吸附组件包括吸附棒、翅片及强磁体，所述吸附棒设置于所述壳体内，并且端部裸 露于所述壳体外部，所述吸附棒的轴向与所述流体通路的延伸方向垂直；多个所述翅片层叠设置于所述吸附棒的外周，并且均位于所述壳体内；所述强磁体设置于所述吸附棒裸露于所述壳体外的端部上，用于向所述吸附棒及所述翅片施加强磁力，以对所述清洗溶剂内的杂质进行吸附。

5.如权利要求3所述的清洗设备，其特征在于，两个所述第一吸附装置以择一选通的方式将所述清洗槽与所述循环过滤组件连接；两个所述第二吸附装置以择一选通的方式将所述溢流槽及所述溶剂回收组件连接。

6.如权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述循环过滤组件包括多个进液管，多个所述进液管分别对称设置于所述清洗槽的两侧，并且多个所述进液管沿所述清洗槽的高度方向间隔且均匀排布，所述进液管的出液方向与所述清洗槽的长度方向平行设置。

7.如权利要求6所述的清洗设备，其特征在于，所述循环过滤组件还包括循环管路、泵及过滤器，所述循环管路的一端与所述第一吸附装置连接，另一端与多个所述进液管连接；所述泵及所述过滤器均设置于所述循环管路上，并且所述泵靠近所述第一吸附装置设置，所述过滤器靠近多个所述进液管设置。

8.如权利要求7所述的清洗设备，其特征在于，所述循环过滤组件还包括有储液器，所述储液器与所述泵及所述溶剂回收组件均连接，所述溶剂回收组件对所述溢流槽流出的清洗溶剂进行蒸馏提纯后输送到所述储液器内。

9.如权利要求1所述的清洗设备，其特征在于，所述清洗槽内具有连通设置的清洗部及收集部，所述清洗部用于对所述掩膜板进行清洗，所述收集部用于收集所述清洗溶剂内的杂质；所述槽体组件还包括与所述第一吸附装置连接的第一出液管及第二出液管，所述第一出液管与所述清洗部连接，所述第二出液管与所述收集部连接。