[发明专利]光圈及激光振荡器

说明书

本发明提供一种能够抑制光束截面从正圆偏离的光学谐振腔用的光圈。光圈配置在封闭于光学谐振腔内的激光束的路径上。该光圈划定有供封闭于光学谐振腔内的激光束通过的通过区域及配置于通过区域的周围的遮光区域。通过区域的与光学谐振腔的光轴正交的平面内彼此正交的两个方向上的尺寸之比即纵横比是可变的。

本申请主张基于2020年7月10日申请的日本专利申请第2020-119131号的优先权。该日本申请的全部内容通过参考而援用于本说明书中。

技术领域

本发明涉及一种配置在光学谐振腔内的光圈及搭载有光圈的激光振荡器。

背景技术

激光振荡器包括由前反射镜及后反射镜构成的光学谐振腔及放电电极等激励机构。通常，在光学谐振腔的光轴上配置有前光圈或/及后光圈。通过配置光圈，能够将光束截面整形成正圆，能够抑制束散角并且能够抑制寄生振荡。为了输出圆形的光束截面的激光束，使用设置有正圆的开口的金属板作为光圈(例如，参考下述的专利文献1)。

专利文献1：日本特开昭61-276387号公报

即使使用具有正圆的开口的光圈来对光束截面进行整形，从激光振荡器输出的激光束的光束截面的形状有时也会从正圆偏离而成为椭圆状。

发明内容

本发明的目的在于提供一种，能够抑制光束截面从正圆偏离的光圈。本发明的另一目的在于提供一种，能够抑制光束截面从正圆偏离的激光振荡器。

根据本发明的一种实施方式，提供一种光圈，其配置在封闭于光学谐振腔内的激光束的路径上，其中，

所述光圈划定有供封闭于所述光学谐振腔内的激光束通过的通过区域及配置在所述通过区域的周围的遮光区域，所述通过区域的与所述光学谐振腔的光轴正交的平面内彼此正交的两个方向上的尺寸之比即纵横比是可变的。

根据本发明的另一实施方式，提供一种激光振荡器，其具有：

光学谐振腔，封闭激光束；

光圈，划定有供封闭于所述光学谐振腔内的激光束通过的通过区域及配置于所述通过区域的周围的遮光区域，所述通过区域的与所述光学谐振腔的光轴正交的平面内彼此正交的两个方向上的尺寸之比即纵横比是可变的；

腔室，容纳有所述光学谐振腔、所述光圈及激光介质气体；及

纵横比改变机构，从所述腔室外进行操作来改变所述光圈的所述通过区域的纵横比。

通过改变光圈的通过区域的纵横比，能够调整光束截面的形状，从而能够抑制从正圆偏离。

附图说明

图1是搭载有基于本实施例的激光振荡器的激光加工装置的概略图。

图2是基于实施例的激光振荡器的包含光轴的剖视图。

图3是基于实施例的激光振荡器的与光轴垂直的剖视图。

图4是表示从正面侧观察放电电极、电极箱及光圈时的位置关系的图。

图5中(A)是光圈的立体图，图5中(B)及(C)是光圈的第1部件及第2部件的主视图。

图6是表示改变脉冲的重复频率并在从激光振荡器的透光窗前进一定的光路长度的位置处测定激光束的光束点(beam spot)的光束直径的评价实验的结果的图表。

图7是基于另一实施例的激光振荡器的与光轴垂直的剖视图。

图8是基于又一实施例的激光振荡器中使用的光圈的立体图。