[发明专利]一种减小FinFET随机静态存储器阈值电压失配的结构在审

专利信息
申请号: 202110720498.9 申请日: 2021-06-28
公开(公告)号: CN113517293A 公开(公告)日: 2021-10-19
发明(设计)人: 李勇 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 戴广志
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 减小 finfet 随机 静态 存储器 阈值 电压 失配 结构
【权利要求书】:

1.一种减小FinFET随机静态存储器阈值电压失配的结构,其特征在于,至少包括:

第一至第四单元;所述第一至第四单元分别包括:单元A和单元B;

其中所述单元A和所述单元B中分别包括:第一至第三Fin结构;所述第一至第三Fin结构上设有横跨所述第一至第三Fin结构的第一栅极;所述第一、第二Fin结构上设有横跨所述第一、第二Fin结构的第二栅极;所述第一、第二Fin结构上设有横跨所述第一、第二Fin结构并连接所述第三Fin结构末端的第一金属;沿所述第一、第二Fin结构的纵向,所述第一金属位于所述第一、第二栅极之间;所述第一、第二Fin结构的首端通过第二金属相互连接;所述第三Fin结构的首端连接第三金属;所述第一、第二Fin结构的末端通过第四金属相互连接;

所述单元A的所述第一栅极的一端通过其第一栅极金属与所述单元B中靠近其所述第三Fin结构末端的所述第一金属连接;所述单元B的所述第一栅极的一端通过其第一栅极金属与所述单元A中靠近其所述第三Fin结构末端的所述第一金属连接;

所述第一、第二单元的所述单元A中的所述第二金属的一端相互连接;所述第一、第二单元的所述单元A中的所述第二栅极的一端通过第二栅极金属相互连接;

所述第一、第四单元的所述单元A中的所述第一、第二Fin结构的末端通过各自的所述第四金属相互连接;所述第一、第四单元的所述单元B中的所述第三Fin结构的首端通过各自的第三金属相互连接;所述第一、第四单元的所述单元B中的所述第一、第二Fin结构的首端通过各自的所述第二金属相互连接。

2.根据权利要求1所述的减小FinFET随机静态存储器阈值电压失配的结构,其特征在于:所述第二、第三单元的所述单元A中的所述第一、第二Fin结构的末端通过各自的所述第四金属相互连接;所述第二、第三单元的所述单元B中的所述第三Fin结构的首端通过各自的第三金属相互连接;所述第二、第三单元的所述单元B中的所述第一、第二Fin结构的首端通过各自的所述第二金属相互连接。

3.根据权利要求1所述的减小FinFET随机静态存储器阈值电压失配的结构,其特征在于:所述第三、第四单元的所述单元A中的所述第二金属的一端相互连接;所述第三、第四单元的所述单元A中的所述第二栅极的一端通过第二栅极金属相互连接。

4.根据权利要求1所述的减小FinFET随机静态存储器阈值电压失配的结构,其特征在于:所述第一、第二单元的所述第二金属连接电压Vss。

5.根据权利要求1所述的减小FinFET随机静态存储器阈值电压失配的结构,其特征在于:所述第二栅极金属连接字线。

6.根据权利要求1所述的减小FinFET随机静态存储器阈值电压失配的结构,其特征在于:所述第一至第四单元中的所述第四金属连接位线。

7.根据权利要求1所述的减小FinFET随机静态存储器阈值电压失配的结构,其特征在于:所述第一、第二单元中的所述第三金属连接电压Vdd。

8.根据权利要求1所述的减小FinFET随机静态存储器阈值电压失配的结构,其特征在于:所述第四单元中的所述单元A的所述第一、第二Fin结构与其上的第一栅极构成通过门。

9.根据权利要求1所述的减小FinFET随机静态存储器阈值电压失配的结构,其特征在于:所述第四单元中的所述单元B的所述第一、第二Fin结构与其上的第二栅极构成下拉管。

10.根据权利要求1所述的减小FinFET随机静态存储器阈值电压失配的结构,其特征在于:所述第一至第四单元中的所述第一、第二Fin结构之间的间距为2~6nm。

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