[发明专利]一种高强度轮胎气门嘴及其生产工艺在审

专利信息
申请号: 202110725957.2 申请日: 2021-06-29
公开(公告)号: CN113444411A 公开(公告)日: 2021-09-28
发明(设计)人: 徐志龙;曹承伟;程勇;赵立;陆小勇;胡宇清 申请(专利权)人: 江阴市创新气门嘴有限公司
主分类号: C09D133/00 分类号: C09D133/00;C09D5/08;C09D7/62;C09D7/48
代理公司: 江阴市轻舟专利代理事务所(普通合伙) 32380 代理人: 曹键
地址: 214421 江苏省无*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 强度 轮胎 气门 及其 生产工艺
【权利要求书】:

1.一种高强度轮胎气门嘴,其特征在于:包括如下步骤:

将铝合金气门嘴用强化涂料进行喷涂,在温度为50-60℃的条件下,进行保温1-1.5h,制得高可靠耐腐蚀气门嘴。

所述的强化涂料包括如下重量份原料:丙烯酸乳液100-150份、增强填料10-15份、滑石粉10-15份、丙二醇丁醚10-15份、分散剂1-5份、增塑剂10-20份、水50-80份;

所述的强化涂料由如下步骤制成:将上述原料加入搅拌釜中,在转速为1500-1800r/min的条件下,进行搅拌3-4h,制得强化涂料。

2.根据权利要求1所述的一种高强度轮胎气门嘴,其特征在于:所述的分散剂为油酸钠、羧酸钠、十二烷基磺酸钠中的一种或多种任意比例混合,增塑剂为癸二酸二异辛酯、邻苯二甲酸二丁酯、邻苯二甲酸二辛酯中的一种或多种任意比例混合。

3.根据权利要求1所述的一种高强度轮胎气门嘴,其特征在于:所述的增强填料由如下步骤制成:

步骤A1:将石墨、硝酸钠、浓硫酸加入反应釜中,在转速为150-200r/min,温度为0-5℃的条件下,进行搅拌并加入高锰酸钾,进行反应2-3h后,升温至温度为30-40℃,进行搅拌3-5h,加入去离子水,在温度为90-95℃的条件下,进行反应30-40min,加入过氧化氢,至无气泡产生,洗涤反应液,至反应液无SO42-离子,过滤并将滤饼烘干,制得氧化石墨烯,将氧化石墨烯分散在去离子水中,加入正硅酸乙酯、无水乙醇、浓盐酸,在转速为200-300r/min,温度为60-70℃的条件下,进行搅拌5-8h,制得改性石墨烯;

步骤A2:将对甲基苯胺、甲苯、氢氧化钾、氯化钾、氢氧化四甲基胺加入反应釜中,在转速为150-200r/min,温度为75-80℃的条件下,进行反应4-6h,制得中间体1,将中间体1、氮-溴代丁二酰亚胺、过氧化苯甲酰、四氯化碳加入反应釜,在温度为80-90℃的条件下,进行反应8-10h,制得中间体1,将中间体2、碳酸钾、去离子水、溴化四乙基铵加入反应釜中,进行回流反应2-3h,制得中间体3;

步骤A3:将中间体3、三氯化磷、三乙胺加入反应釜中,在转速为150-200r/min,温度为50-60℃的条件下,进行反应3-5h,制得中间体4,将中间体4、对苯二酚、碳酸钠、甲苯加入反应釜中,在转速为200-300r/min,温度为30-40℃的条件下,进行反应1-3h,制得中间体5,将溴丙烯、2,6-二叔丁基苯酚、氢氧化钾、四氢呋喃加入反应釜中,在温度为140-150℃的条件下,进行反应1-1.5h,制得中间体6;

步骤A4:将中间体6、中间体5、碳酸钠、甲苯加入反应釜中,在转速为200-300r/min的条件下,进行反应2-3h,制得中间体7,将中间体7、硫磺、碘、四氢呋喃加入反应釜中,在温度为180-200℃的条件下,进行回流反应3-5h,制得中间体8,将中间体8、溴乙胺、三乙胺、四氢呋喃加入反应釜中,回流反应2-3h,制得中间体9,将中间体9、改性石墨烯、去离子水、1-羟基苯并三唑,加入反应釜中,在温度为30-40℃的条件下,进行反应5-8h后,过滤去除滤液,将滤饼烘干,制得增强填料。

4.根据权利要求3所述的一种高强度轮胎气门嘴,其特征在于:步骤A1所述的石墨、硝酸钠、浓硫酸、高锰酸钾、去离子水、过氧化氢的用量比为5g:23g:100mL:25g:150mL:15mL,浓硫酸的质量分数为95%,氧化石墨烯、去离子水、正硅酸乙酯、无水乙醇、浓盐酸的用量比为5g:50mL:4mL:10mL:10mL,浓硫酸的质量分数为36%。

5.根据权利要求3所述的一种高强度轮胎气门嘴,其特征在于:步骤A2所述的对甲基苯胺、甲苯、氢氧化钾、氯化钾、氢氧化四甲基胺的用量质量比为4.3:1:0.15:0.2:0.5。

6.根据权利要求3所述的一种高强度轮胎气门嘴,其特征在于:步骤A2中间体1、氮-溴代丁二酰亚胺、过氧化苯甲酰、四氯化碳的用量比为0.1mol:0.1mol:0.15g:300mL,中间体1、碳酸钾、去离子水、溴化四乙基铵的用量比为3.4g:8.5g:80mL:3mL。

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