[发明专利]显示面板及其制备方法、显示设备有效
申请号: | 202110729219.5 | 申请日: | 2021-06-29 |
公开(公告)号: | CN113451531B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 刘军;周斌;黄勇潮;苏同上;王海东;栾兴龙;马宇轩 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H10K50/84 | 分类号: | H10K50/84;H10K59/12;H10K71/00 |
代理公司: | 北京市立方律师事务所 11330 | 代理人: | 张筱宁;宋海斌 |
地址: | 230012 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 及其 制备 方法 设备 | ||
1.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
在衬底基板位于阻隔区域的一侧依次制备第一金属层和第一钝化层;
在所述第一钝化层远离所述衬底基板的一侧制备光阻结构;
基于所述光阻结构图案化所述第一钝化层和所述第一金属层,得到第一钝化结构和第一金属结构,且所述第一金属结构的端部形成有阻挡部;
剥离所述阻挡部和所述光阻结构;
刻蚀所述第一金属结构得到阻隔结构的第一结构,使得第一结构中、第二金属子结构在所述衬底基板的正投影,位于第一金属子结构和第三金属子结构在所述衬底基板的正投影内;所述第一金属子结构、所述第二金属子结构和所述第三金属子结构层叠设置。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述在所述第一钝化层远离所述衬底基板的一侧制备光阻结构,包括:
在所述第一钝化层远离所述衬底基板的一侧依次制备第二金属层和第二钝化层;
在所述第二钝化层远离所述衬底基板的一侧制备所述光阻结构。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述基于所述光阻结构图案化所述第一钝化层和所述第一金属层,得到第一钝化结构和第一金属结构,且所述第一金属结构的端部形成有阻挡部,包括:
基于所述光阻结构图案化所述第二钝化层、所述第二金属层、所述第一钝化层和所述第一金属层,得到第二钝化结构、第二金属结构、所述第一钝化结构和所述第一金属结构,且所述第二金属结构和所述第一金属结构的端部均形成有阻挡部。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述图案化所述第一金属结构得到阻隔结构的第一结构,还包括:
刻蚀所述第二金属结构得到阻隔结构的第二结构,使得第二结构中、第五金属子结构在所述衬底基板的正投影,位于第四金属子结构和第六金属子结构的在所述衬底基板的正投影内;所述第四金属子结构、所述第五金属子结构和所述第六金属子结构层叠设置。
5.根据权利要求4所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述刻蚀所述第二金属结构得到阻隔结构的第二结构,使得第二结构中、第五金属子结构在所述衬底基板的正投影,位于第四金属子结构和所述第六金属子结构的在所述衬底基板的正投影内,包括:
对所述第二金属结构的第四金属子层、第五金属子层和第六金属子层进行刻蚀,形成所述第二结构的所述第四金属子结构、所述第五金属子结构和所述第六金属子结构,直至所述第五金属子结构在所述衬底基板的正投影的边界,与所述第四金属子结构和所述第六金属子结构在所述衬底基板的正投影的边界具有第二设定距离。
6.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述刻蚀所述第一金属结构得到阻隔结构的第一结构,使得第一结构中、第二金属子结构在所述衬底基板的正投影,位于第一金属子结构和第三金属子结构在所述衬底基板的正投影内,包括:
对所述第一金属结构的第一金属子层、第二金属子层和第三金属子层进行刻蚀,形成所述第一结构的所述第一金属子结构、所述第二金属子结构和所述第三金属子结构,直至所述第二金属子结构在所述衬底基板的正投影的边界,与所述第一金属子结构和所述第三金属子结构在所述衬底基板的正投影的边界具有第一设定距离。
7.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述在所述第一钝化层远离所述衬底基板的一侧制备光阻结构,包括:
在所述第一钝化层远离所述衬底基板的一侧制备光阻层,使得所述光阻层覆盖所述衬底基板位于显示区域一侧的准像素结构;
图案化所述光阻层,使得所述光阻层位于所述阻隔区域的部分形成所述光阻结构。
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